[发明专利]静电吸盘系统、成膜装置和方法、吸附方法及电子器件的制造方法有效
申请号: | 201910278040.5 | 申请日: | 2019-04-09 |
公开(公告)号: | CN110777332B | 公开(公告)日: | 2023-06-27 |
发明(设计)人: | 柏仓一史;石井博 | 申请(专利权)人: | 佳能特机株式会社 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/04;C23C14/12;C23C14/50;C23C14/54;H10K71/16 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 刘杨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供静电吸盘系统、成膜装置和方法、吸附方法及电子器件的制造方法。静电吸盘系统用于吸附被吸附体,其特征在于,包括:静电吸盘,具有电极部和吸附所述被吸附体的吸附面;电位差施加部,对所述电极部施加电位差;磁力产生部,被配置在所述静电吸盘的所述吸附面的相反侧;以及驱动机构,使所述磁力产生部在包含与所述静电吸盘的所述吸附面平行的第1方向在内的方向上移动。 | ||
搜索关键词: | 静电 吸盘 系统 装置 方法 吸附 电子器件 制造 | ||
【主权项】:
1.一种静电吸盘系统,用于吸附被吸附体,其特征在于,/n该静电吸盘系统包括:/n静电吸盘,具有电极部和吸附所述被吸附体的吸附面;/n电位差施加部,对所述电极部施加电位差;/n磁力产生部,被配置在所述静电吸盘的所述吸附面的相反侧;以及/n驱动机构,使所述磁力产生部在包含与所述静电吸盘的所述吸附面平行的第1方向在内的方向上移动。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能特机株式会社,未经佳能特机株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910278040.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:金属包覆碳纳米管的制备方法
- 下一篇:蒸发源及蒸镀装置
- 同类专利
- 专利分类