[发明专利]一种磁性纳米颗粒复合膜及其制备方法有效
申请号: | 201910273164.4 | 申请日: | 2019-04-04 |
公开(公告)号: | CN109887706B | 公开(公告)日: | 2021-05-25 |
发明(设计)人: | 李国建;常玲;刘诗莹;刘晓明;王强 | 申请(专利权)人: | 东北大学;沈阳东大新兴产业技术研究院有限公司 |
主分类号: | H01F10/00 | 分类号: | H01F10/00;H01F10/14;H01F41/32 |
代理公司: | 大连东方专利代理有限责任公司 21212 | 代理人: | 赵淑梅;李馨 |
地址: | 110819 辽宁*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 一种磁性纳米颗粒复合膜及其制备方法,属于薄膜材料磁性控制技术领域。一种磁性纳米颗粒复合膜,所述复合膜由磁性层和绝缘层连续交替沉积而成,复合膜厚度为15~100nm;所述磁性层是由磁性颗粒均匀嵌入绝缘介质中形成的层膜,所述磁性颗粒成分为Fe或Fe‑Ni,磁性颗粒体积分数为80~95%,磁性层厚度为1~20nm;所述绝缘层是由绝缘介质组成,厚度为0.1~10nm。本发明所制备的磁性纳米颗粒复合膜能够控制纳米颗粒的合并生长、颗粒大小及分布均匀性等,从而在晶粒细化的同时实现磁性的提高。使用此发明所制备的复合膜特别适用于数字化电子工业和通信技术领域的电子元器件。 | ||
搜索关键词: | 一种 磁性 纳米 颗粒 复合 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种磁性纳米颗粒复合膜,其特征在于,所述复合膜由磁性层和绝缘层连续交替沉积而成,复合膜厚度为15~100nm;所述磁性层是由尺寸均一的磁性颗粒均匀嵌入绝缘介质中形成的层膜,所述磁性颗粒成分为Fe或Fe‑Ni,磁性颗粒体积分数为80~95%,磁性颗粒的直径为1~20nm,磁性层厚度为1~20nm;所述绝缘层是由绝缘介质组成,厚度为0.1~10nm。
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