[发明专利]膜厚测定装置有效
| 申请号: | 201910272081.3 | 申请日: | 2019-04-04 |
| 公开(公告)号: | CN110360941B | 公开(公告)日: | 2021-12-14 |
| 发明(设计)人: | 升元佑一;上角彻;山中信明;中西洋介 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
| 主分类号: | G01B11/06 | 分类号: | G01B11/06 |
| 代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 何立波;张天舒 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | 抑制受光部处的噪声的产生而提高膜厚测定精度。膜厚测定装置具备:工作台(1),其仅与基板(2)的缘部接触;反射抑制部(12、13),其位于与工作台分离开的位置,并且位于被工作台包围的区域;光源(4);以及受光部(5),第1光(8)和第2光(9)向受光部(5)入射,第1光(8)是从光源照射出的光被被测定膜的上表面反射后的光,第2光(9)是被基板的上表面反射后的光,反射抑制部位于与基板的露出在空气中的下表面分离开的位置,对入射的来自光源的光被反射至受光部这一情况进行抑制。 | ||
| 搜索关键词: | 测定 装置 | ||
【主权项】:
1.一种膜厚测定装置,其对在透过光的基板的上表面形成的被测定膜的膜厚进行测定,所述膜厚测定装置具备:工作台,其仅与所述基板的俯视时的缘部接触,并且从下方支撑所述基板;反射抑制部,其在所述工作台的下方位于与所述工作台分离开的位置,并且在俯视时所述反射抑制部的至少一部分位于被所述工作台包围的区域;光源,其向所述被测定膜照射光;以及受光部,第1光和第2光向所述受光部入射,所述第1光是从所述光源照射出的光被所述被测定膜的上表面反射后的光,所述第2光是从所述光源照射出的光透过所述被测定膜、进而被所述基板的上表面反射后的光,所述反射抑制部位于与所述基板的没有接触至所述工作台而是露出在空气中的下表面分离开的位置,所述反射抑制部对入射至所述反射抑制部的来自所述光源的光被反射至所述受光部这一情况进行抑制。
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