[发明专利]膜厚测定装置

权利要求书

1.一种膜厚测定装置，其对在透过光的基板的上表面形成的被测定膜的膜厚进行测定，

所述膜厚测定装置具备：

工作台，其仅与所述基板的俯视时的缘部接触，并且从下方支撑所述基板；

反射抑制部，其在所述工作台的下方位于与所述工作台分离开的位置，并且在俯视时所述反射抑制部的至少一部分位于被所述工作台包围的区域；

光源，其向所述被测定膜照射光；以及

受光部，第1光和第2光向所述受光部入射，所述第1光是从所述光源照射出的光被所述被测定膜的上表面反射后的光，所述第2光是从所述光源照射出的光透过所述被测定膜、进而被所述基板的上表面反射后的光，

所述反射抑制部位于与所述基板的没有接触至所述工作台而是露出在空气中的下表面分离开的位置，

所述反射抑制部对入射至所述反射抑制部的来自所述光源的光被反射至所述受光部这一情况进行抑制，

所述反射抑制部是凹面镜。

2.根据权利要求1所述的膜厚测定装置，其中，

所述工作台在俯视时是环状。

3.一种膜厚测定装置，其对在透过光的基板的上表面形成的被测定膜的膜厚进行测定，

所述膜厚测定装置具备：

工作台，其从下方支撑所述基板；

光源，其向所述被测定膜照射光；以及

受光部，第1光和第2光向所述受光部入射，所述第1光是从所述光源照射出的光被所述被测定膜的上表面反射后的光，所述第2光是从所述光源照射出的光透过所述被测定膜、进而被所述基板的上表面反射后的光，

在所述工作台的上表面形成凹部，

所述工作台在俯视时在包围所述凹部的区域与所述基板的下表面接触，

所述凹部的剖面形状是圆弧形状。

4.根据权利要求3所述的膜厚测定装置，其中，

所述基板的下表面的与所述凹部相对的部分露出在空气中。

5.根据权利要求3或4所述的膜厚测定装置，其中，

在所述凹部的内壁形成粗糙面状的光吸收涂层。