[发明专利]纳米多孔硅碳材料的制备方法、极片有效

专利信息
申请号: 201910252209.X 申请日: 2019-03-29
公开(公告)号: CN109950499B 公开(公告)日: 2022-05-20
发明(设计)人: 姚林林;贺劲鑫;王海林;李亚飞;缪永华;薛驰 申请(专利权)人: 中天新兴材料有限公司
主分类号: H01M4/36 分类号: H01M4/36;H01M4/485;H01M4/62;H01M4/131;H01M10/0525;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 代理人: 刘丽华;孙芬
地址: 226400 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种纳米多孔硅碳材料的制备方法和极片,其中方法包括以下步骤:(1)将硅粉和镁粉以摩尔比为1:2‑2.5混合均匀,加热制备成分均一的硅镁合金;(2)将制得的硅镁合金在真空下进行去合金化热处理溶解去除硅镁合金晶格上的镁原子形成空位,硅原子与空位重组形成纳米多孔结构,得到含镁的纳米多孔硅前驱体;(3)对纳米多孔硅前驱体进行氧化处理,其表层形成连续的二氧化硅纳米层,继而进行酸洗去除残余硅镁合金和镁,再通过过滤和烘干制得纳米多孔硅材料;(4)将制备的纳米多孔硅材料与碳源混合进行CVD碳包覆,制备出纳米多孔硅碳材料。本发明以去合金化法制得纳米多孔硅,其中高温真空处理及氧化改善多孔结构的可控性和碳层均匀致密包覆。
搜索关键词: 纳米 多孔 材料 制备 方法
【主权项】:
1.一种纳米多孔硅碳材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)将硅粉和镁粉以摩尔比为1:2‑2.5混合均匀,加热制备成分均一的硅镁合金;(2)将制得的硅镁合金在真空下进行去合金化热处理溶解去除硅镁合金晶格上的镁原子形成空位,硅原子与空位重组形成纳米多孔结构,得到含镁的纳米多孔硅前驱体;(3)对纳米多孔硅前驱体进行氧化处理,其表层形成连续的二氧化硅纳米层,继而进行酸洗去除残余硅镁合金和镁,再通过过滤和烘干制得纳米多孔硅材料;(4)将制备的纳米多孔硅材料与碳源混合进行CVD碳包覆,制备出纳米多孔硅碳材料。
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