[发明专利]一种甲苯磺酸索拉非尼新晶型及其制备方法有效
| 申请号： | 201910199783.3 | 申请日： | 2014-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN110204483B | 公开（公告）日： | 2021-06-29 |
| 发明（设计）人： | 吴立红;梁敏;池晓雷;王世霞;钟文辉;孙文涛;王永怀;刘瑞鹏;成红云 | 申请（专利权）人： | 石药集团中奇制药技术(石家庄)有限公司 |
| 主分类号： | C07D213/81 | 分类号： | C07D213/81 |
| 代理公司： | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人： | 李红团 |
| 地址： | 050035 河北省石家*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种甲苯磺酸索拉非尼的新晶型及其制备方法，该晶型XRPD图谱包括以下2θ角所示的衍射峰：4.3°、13.1°、16.5°、17.7°、19.9°、20.3°、20.7°、21.3°、22.7°，误差为±0.2°。该晶型可通过将甲苯磺酸索拉非尼原料加入极性有机溶剂中，控温20‑100℃溶解，然后加入惰性溶剂析晶得到。所得晶型晶体为白色至略带黄褐色的结晶性粉末，纯度可达99.8％以上，总杂不超过0.2％，潜在基因毒性杂质SL‑5可以控制在不超过200ppm。该晶型易于制备，具有良好的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 甲苯 磺酸索拉非尼新晶型 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种甲苯磺酸索拉非尼的K晶型，其特征在于，所述K晶型的X‑射线粉末衍射(XPRD)图谱包括以下2θ角所示的衍射峰：4.3°、10.9°、13.1°、14.6°、15.9°、16.5°、17.7°、18.7°、19.2°、19.9°、20.3°、20.7°、21.3°、22.7°、23.2°、23.5°、23.9°、24.36°、24.9°、25.2°、25.8°、26.4°、27.2°、28.0°、28.5°、29.4°、29.7°、30.9°、33.7°、39.1°、41.0°、45.9°，误差为±0.2°。
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