[发明专利]一种选择性激光烧结铺粉层厚测量及均匀性表征的方法

摘要

本发明公开了一种选择性激光烧结铺粉层厚测量及均匀性表征的方法，具体步骤包括两种不同粉末的激光烧结、试件剖切及清洗、烧结层厚度测量、烧结层厚度计算及铺粉均匀性评价等；首先把粉末A和粉末B分别装在左右不同的送粉缸，再交叠进行激光烧结不同方位的多个试件，然后把清洗干净的试件放到扫描电子显微镜下，进行烧结厚度的测量，通过烧结厚度及烧结次数计算铺粉层厚，再根据不同方位的铺粉层厚，采用标准偏差表征铺粉均匀性。本发明方法简单实用，可以解决实验现场无法计算和测量铺粉层厚及其均匀性的问题，有利于进一步研究粉层厚度对铺粉质量的影响。

主权项

1.一种选择性激光烧结铺粉层厚测量及均匀性表征的方法，其特征在于，具体步骤如下：(1)两种不同粉末的激光烧结：(a)粉末A的烧结：先从送粉缸Ⅰ用铺粉辊筒I把粉末A铺设到成型缸，连续进行铺粉和烧结T次，且同时烧结M个试件；(b)粉末B的烧结：从送粉缸II用铺粉辊筒II把粉末B铺设到成型缸，在已烧结的M个试件上再次连续进行铺粉和烧结T次；(c)如此反复交叠进行(a)(b)，重复N次；(2)试件剖切及清洗：待烧结完成以后，取出试件，将试件沿长度方向剖切，并把表面擦拭干净；(3)测量烧结层厚度及计算单个试件的平均烧结层厚度：把清洗好的试件放到扫描电子显微镜下，再利用背散射电子谱，测量出单个试件粉末A单层烧结层的W个不同位置的厚度，如第i层第j个位置的厚度，记为L_ij(i＝1，2，3…N；j＝1，2，3…W)，计算出单个试件粉末A单层烧结层的平均厚度，如第k个试件第i层的平均厚度，记为Q_ki(k＝1，2，3…M；i＝1，2，3…N)及单个试件粉末A烧结层的平均厚度，如第k个试件的平均烧结厚度，记为R_k，其中：单个试件粉末A单层烧结层的平均厚度为(以第i层为例)：单个试件粉末A烧结层的平均厚度为(以第k个试件为例)：同理得：单个试件粉末B的第i层第j个位置的厚度，记为P_ij(i＝1，2，3…N；j＝1，2，3…W)，第k个试件第i层的平均厚度，记为Y_ki(k＝1，2，3…M；i＝1，2，3…N)，第k个试件的平均厚度烧结厚度，记为U_k，其中：单个试件粉末B单层烧结层的平均厚度为(以第i层为例)：单个试件粉末B烧结层的平均厚度为(以第k个试件为例)：(4)计算平均烧结层厚度：根据以上测量得到各单个试件的数据，把所有烧结的M个试件的烧结层平均厚度进行累加求和，计算得到相同烧结工艺参数条件下一次铺粉时烧结层的平均厚度，并采用该数值表征铺粉厚度，记为V₁和V₂，其中：(5)分析铺粉的均匀性：对所有试件测量得到的平均烧结层厚度进行数学偏差分析，得到试件铺粉的均匀性，采用标准差S₁和S₂表征，其中：。