[发明专利]半导体装置在审
| 申请号: | 201910171830.3 | 申请日: | 2019-03-07 |
| 公开(公告)号: | CN110911490A | 公开(公告)日: | 2020-03-24 |
| 发明(设计)人: | 齐藤泰伸 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社 |
| 主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/20 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 牛玉婷 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | 实施方式提供一种抑制了开关时的电流振动和电子的捕获所带来的导通电阻的增加的半导体装置。实施方式的半导体装置具备:基板;设于基板上的第一氮化物半导体层;第二氮化物半导体层,设于第一氮化物半导体层上,带隙比第一氮化物半导体层大;设于第二氮化物半导体层上的源极电极;设于第二氮化物半导体层上的漏极电极;设于源极电极与漏极电极之间的栅极电极;以及在漏极电极与栅极电极之间的第二氮化物半导体层上与漏极电极分离地设置的p型的第三氮化物半导体层。 | ||
| 搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
【主权项】:
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