[发明专利]一种宽角太阳能光谱选择吸收薄膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910138645.4 申请日: 2019-02-25
公开(公告)号: CN109972103B 公开(公告)日: 2022-04-05
发明(设计)人: 江绍基;王虹;张梓豪;赵宇航;莫云杰;陈少飞 申请(专利权)人: 中山大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/16;C23C14/10;C23C14/02;B05D1/40
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 林丽明
地址: 510275 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种宽角太阳能光谱选择吸收薄膜,包括基底、微纳球体、金属反射层、介质干涉层、金属吸收层、介质增透层;所述微纳球体通过匀胶机旋涂在所述基底上;所述金属反射层通过磁控溅射镀制在所述微纳球体上;所述介质干涉层通过磁控溅射镀制在所述金属反射层上;所述金属吸收层通过磁控溅射镀制在所述介质干涉层上;所述介质增透层通过磁控溅射镀制在所述金属吸收层上。本发明还提供了该吸收薄膜的制备方法,通过该方法制备出来的吸收薄膜在较宽的波段内均具有高的吸收率,对入射光具有良好的角度容差;且制备方法简单且适合大面积制备,易于实现工业化生产。
搜索关键词: 一种 太阳能 光谱 选择 吸收 薄膜 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种宽角太阳能光谱选择吸收薄膜,其特征在于:包括基底、微纳球体、金属反射层、介质干涉层、金属吸收层、介质增透层;其中:所述微纳球体通过匀胶机旋涂在所述基底上;所述金属反射层通过磁控溅射镀制在所述微纳球体上;所述介质干涉层通过磁控溅射镀制在所述金属反射层上;所述金属吸收层通过磁控溅射镀制在所述介质干涉层上;所述介质增透层通过磁控溅射镀制在所述金属吸收层上。
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