[发明专利]一种宽角太阳能光谱选择吸收薄膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910138645.4 申请日: 2019-02-25
公开(公告)号: CN109972103B 公开(公告)日: 2022-04-05
发明(设计)人: 江绍基;王虹;张梓豪;赵宇航;莫云杰;陈少飞 申请(专利权)人: 中山大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/16;C23C14/10;C23C14/02;B05D1/40
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 林丽明
地址: 510275 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 太阳能 光谱 选择 吸收 薄膜 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种宽角太阳能光谱选择吸收薄膜,其特征在于:包括基底、微纳球体、金属反射层、介质干涉层、金属吸收层、介质增透层;其中:

所述微纳球体通过匀胶机旋涂在所述基底上;

所述金属反射层通过磁控溅射镀制在所述微纳球体上;

所述介质干涉层通过磁控溅射镀制在所述金属反射层上;

所述金属吸收层通过磁控溅射镀制在所述介质干涉层上;

所述介质增透层通过磁控溅射镀制在所述金属吸收层上;

所述的基底为任意材料制成;所述的微纳球体为任意材料制成;所述的金属反射层、金属吸收层为无色金属材料制成;所述介质干涉层、介质增透层为折射率为1.04~1.81低折射率材料制成;

当所述低折射率材料为SiO2、无色金属为Cr时,所述的微纳球体半径为500nm;所述的金属反射层的厚度为100nm;所述的介质干涉层的厚度为100nm;所述的金属吸收层的厚度为5nm,所述的介质增透层的厚度为100nm;

宽角太阳能光谱选择吸收薄膜的制备方法,包括以下步骤:

S1:将光学基底进行抛光;

S2:在抛光的光学基底上利用匀胶机旋涂SiO2微纳球体溶液;

S3:在SiO2微纳球体上采用磁控溅射镀制干涉膜系,所述干涉膜系具体为依次镀制Cr金属反射层、SiO2介质干涉层、Cr金属吸收层和SiO2介质增透层;

用针管取0.3ml浓度为100mg/ml的SiO2溶液,滴在单晶Si片上进行旋涂,加速度为80rpm/s,加速度为25s,在2000rpm时匀速转动75s;

真空气压控制在7×10-4帕,通入氩气,流量为80sccm,工作气压维持在0.4帕,Cr金属反射层和Cr金属吸收层的溅射功率均为50W,制备厚度分别为100nm和5nm,SiO2介质干涉层和SiO2介质增透层的溅射功率均为300W,制备厚度皆为100nm。

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