[发明专利]一种具有高度差的三维手性结构的制备方法有效
| 申请号： | 201910133816.4 | 申请日： | 2019-02-22 |
| 公开（公告）号： | CN109913820B | 公开（公告）日： | 2021-05-04 |
| 发明（设计）人： | 张中月;王明艳;王天堃;张梓彦;白瑜;李颖 | 申请（专利权）人： | 陕西师范大学 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30;C23C14/04;C23C14/18 |
| 代理公司： | 重庆萃智邦成专利代理事务所(普通合伙) 50231 | 代理人： | 竺栋 |
| 地址： | 710119 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明涉及微纳结构制备领域，具体涉及一种具有高度差的三维手性结构的制备方法，包括以下步骤：步骤一、手性结构的模板制备；步骤二、采用第一沉积角进行倾斜镀膜；步骤三、采用第二沉积角进行倾斜镀膜；步骤四、进行处理，得到手性结构；该具有高度差的三维手性结构的制备方法，在制备存在高度差的手性结构的时候，不需要反复的进行甩胶、电子束曝光、套刻、显影、定影等工序，只需要调节镀膜的沉积角度，就可以制备存在高度差的手性结构，使得具有高度差的手性结构的制备更加方便，降低了电子束曝光技术的要求，减少了电子束曝光的次数。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 高度 三维 手性 结构 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种具有高度差的三维手性结构的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一、手性结构的模板制备；步骤二、采用第一沉积角进行倾斜镀膜；步骤三、采用第二沉积角进行倾斜镀膜；步骤四、进行处理，得到手性结构。
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