[发明专利]蚀刻液组合物在审
| 申请号： | 201910098520.3 | 申请日： | 2019-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN109554711A | 公开（公告）日： | 2019-04-02 |
| 发明（设计）人： | 郝起林 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/44 | 分类号： | C23F1/44 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种蚀刻液组合物，用于湿法蚀刻含钛膜薄膜。所述蚀刻液组合物以氢氟酸为主氧化剂，并包括在蚀刻过程中在钛膜表面形成致密氧化膜的助氧化剂，在蚀刻过程中抑制钛膜离子聚集吸附的碱金属盐，以及溶剂。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻液组合物 蚀刻 钛膜 氧化剂 致密氧化膜 表面形成 碱金属盐 离子聚集 湿法蚀刻 助氧化剂 含钛膜 氢氟酸 溶剂 吸附 薄膜 | ||
【主权项】：
1.一种蚀刻液组合物，用于湿法蚀刻含钛膜薄膜，其特征在于，所述蚀刻液组合物以氢氟酸为主氧化剂，并包括在蚀刻过程中在钛膜表面形成致密氧化膜的助氧化剂，在蚀刻过程中抑制钛膜离子聚集吸附的碱金属盐，以及溶剂。
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