[发明专利]一种铝合金表面的PVD真空镀膜工艺在审
| 申请号： | 201910077064.4 | 申请日： | 2019-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN109518142A | 公开（公告）日： | 2019-03-26 |
| 发明（设计）人： | 赵文强;尹忠乐 | 申请（专利权）人： | 佛山市南海区晶鼎泰机械设备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/06;C23C14/10 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 528000 广东省佛山市南海区狮山*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种铝合金表面的PVD真空镀膜工艺，打底层：弧电源轰击，偏压控制在200～300V，时间控制在3～5分钟；中间多层：用氧化物和氮化物多层过渡，层数控制8～10层；单层时间控制在10～20分钟；靶电流控制在10～20A；过渡咬合层：过渡层和颜色层混合溅射时间15～25分钟；颜色层：颜色层时间控制在20～30分钟；保护层：选用高频率大能量电源，时间控制在40～50分钟，得到PVD膜层。铝合金经过此工艺处理后，可以在免做水镀处理、膜层厚度大大降低的情况下，仍能满足膜层的防腐蚀等性能要求。与传统工艺相比，在取消水镀层的前提，只用PVD镀层，同样达到了耐腐蚀、耐摩擦等各种测试效果；同时，降低了生产成本，减少了良率损失。 | ||
| 搜索关键词： | 时间控制 颜色层 真空镀膜工艺 铝合金表面 多层 膜层 测试效果 传统工艺 电流控制 工艺处理 偏压控制 性能要求 保护层 打底层 大能量 氮化物 防腐蚀 高频率 过渡层 弧电源 铝合金 耐腐蚀 耐摩擦 咬合层 氧化物 单层 镀层 溅射 良率 水镀 轰击 生产成本 电源 | ||
【主权项】：
1.一种铝合金表面的PVD真空镀膜工艺，其特征在于，包括如下步骤：步骤一：打底层：弧电源轰击，偏压控制在200～300V，时间控制在3～5分钟；步骤二：中间多层：用氧化物和氮化物多层过渡，层数控制8～10层；单层时间控制在10～20分钟；靶电流控制在10～20A；步骤三：过渡咬合层：过渡层和颜色层混合溅射时间15～25分钟；步骤四：颜色层：颜色层时间控制在20～30分钟；步骤五：保护层：选用高频率大能量电源，时间控制在40～50分钟，得到PVD膜层。
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