[发明专利]无铁磁性、高强度、强立方织构镍钨复合基带及制备方法有效

专利信息
申请号: 201910054619.3 申请日: 2019-01-21
公开(公告)号: CN109811310B 公开(公告)日: 2020-09-01
发明(设计)人: 刘琳霞;刘潇;王国祥;王莹 申请(专利权)人: 河南工学院
主分类号: C23C14/16 分类号: C23C14/16;C22F1/10;C22F1/02
代理公司: 北京卓岚智财知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11624 代理人: 郭智
地址: 453003 *** 国省代码: 河南;41
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摘要: 无铁磁性、高强度、强立方织构镍钨复合基带的制备方法,包括:(1)热轧:将Ni‑12at.%W合金铸锭热轧,工艺为:开轧温度1280℃~1310℃,终轧温度1000℃~1030℃,变形量89%~92%;(2)冷轧及再结晶热处理:将热轧板冷轧,至厚度50μm,将冷轧带材在纯氢气中再结晶热处理,工艺为:1280℃~1320℃保温5min;(3)溅射薄膜:在Ni‑12at.%W再结晶带材表面用磁控溅射沉积Ni‑9at.%W合金薄膜,工艺为:以Ni‑9at.%W合金铸锭为靶材,功率190W~210W,厚度5nm~20nm。磁控溅射的Ni‑9at.%W合金薄膜不影响基带整体的机械和磁性能,为强立方织构,基带具有高强度、强立方织构。
搜索关键词: 铁磁性 强度 立方 织构镍钨 复合 基带 制备 方法
【主权项】:
1.一种无铁磁性、高强度、强立方织构镍钨复合基带,包括带材基体和用磁控溅射的方法沉积在该带材基体表面上的一层Ni‑9at.%W合金薄膜,所述带材基体是Ni‑12at.%W铸锭经热轧、冷轧及再结晶处理后得到的带材,该带材的厚度为50μm,所述Ni‑9at.%W合金薄膜的厚度为5nm~20nm。
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