[发明专利]一种钴60辐照对四消丸的质量影响研究方法在审
| 申请号： | 201910043324.6 | 申请日： | 2019-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN111443144A | 公开（公告）日： | 2020-07-24 |
| 发明（设计）人： | 董光明;杜双喜;郝津芳;许信学 | 申请（专利权）人： | 山西华康药业股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N30/06 | 分类号： | G01N30/06;G01N30/74;G01N30/86 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 030000 *** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | 一种钴60辐照对四消丸的质量影响研究方法，具体方法：供试品的制备，对照品溶液的制备，色谱条件选择，测定方法，供试品1相似度试验，供试品2稳定性试验，供试品2重现性试验，灭菌前后指纹图谱的比较试验，灭菌前后样品共3批，每批3个样品，经HPLC进样分析测定，记录色谱图与未灭菌供试品中共有峰相比，钴60辐照灭菌和传统高温灭菌后，供试品样品中色谱峰均没有明显变化。本方法对钴60辐照对四消丸的质量影响进行研究，可得且钴60辐照灭菌薄层色谱与为未灭菌的四消丸的薄层色谱没有明显差异，对四消丸中化学成分的影响也较小。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 60 辐照 四消丸 质量 影响 研究 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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