[其他]一种光源结构、光学投影模组、感测装置及设备有效
申请号: | 201890000302.0 | 申请日: | 2018-09-21 |
公开(公告)号: | CN209803547U | 公开(公告)日: | 2019-12-17 |
发明(设计)人: | 田浦延 | 申请(专利权)人: | 深圳阜时科技有限公司 |
主分类号: | G03B21/20 | 分类号: | G03B21/20 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518055 广东省深圳市南山*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型适用于光学和电子技术领域,提供了一种光源结构,其用于发出不规则分布的光斑图案。所述光源结构包括半导体基底及形成在所述半导体基底上的多个不规则分布的发光单元。所述半导体基底的发光表面上定义出一图案光发光区域。所述图案光发光区域为矩形。以所述图案光发光区域左下角顶点为原点,相交于左下角的两条直角边延展方向分别为横坐标轴和纵坐标轴,坐标单位为微米,所述多个发光单元分布在该图案光发光区域内。本实用新型还提供一种包括该光源结构的光学投影模组、感测装置及设备。 | ||
搜索关键词: | 发光区域 图案光 半导体基底 光源结构 本实用新型 不规则分布 发光单元 下角 电子技术领域 原点 发光表面 感测装置 光斑图案 光学投影 横坐标轴 纵坐标轴 坐标单位 直角边 模组 延展 相交 | ||
【主权项】:
1.一种光源结构,其用于发出不规则分布的光斑图案,所述光源结构包括半导体基底及形成在所述半导体基底上的多个不规则分布的发光单元,所述半导体基底的发光表面上定义出一图案光发光区域,所述图案光发光区域为矩形,以所述图案光发光区域左下角顶点为原点,相交于左下角的两条直角边延展方向分别为横坐标轴和纵坐标轴,坐标单位为微米建立坐标系来描述所述发光单元的位置,所述发光单元的分布图案选自在具有一百个发光单元的基础发光单元分布图案中通过加入或减少一个或多个发光单元或者改变一个或多个发光单元的位置获得的多种第一发光单元分布图案中的一种,所述基础发光单元分布图案的一百个发光单元的坐标值为:P1(170.55,157.95);P2(146.25,145.35);P3(189.45,177.75);P4(175.95,91.35);P5(202.95,89.55);P6(211.95,193.95);P7(230.85,174.15);P8(125.55,220.05);P9(213.75,40.95);P10(186.75,39.15);P11(10.35,153.45);P12(95.85,94.05);P13(171.45,61.65);P14(186.75,12.15);P15(105.75,254.25);P16(120.15,152.55);P17(227.25,108.45);P18(71.55,107.55);P19(343.35,108.45);P20(247.05,68.85);P21(46.35,119.25);P22(65.25,80.55);P23(201.15,276.75);P24(254.25,113.85);P25(108.45,281.25);P26(192.15,250.65);P27(27.45,191.25);P28(40.05,166.95);P29(22.05,94.95);P30(22.05,67.95);P31(71.55,220.05);P32(262.35,16.65);P33(49.05,235.35);P34(227.25,267.75);P35(112.05,71.55);P36(5.85,274.95);P37(139.95,67.05);P38(35.55,43.65);P39(25.65,249.75);P40(76.95,134.55);P41(4.95,219.15);P42(280.35,106.65);P43(327.15,161.55);P44(93.15,31.95);P45(52.65,262.35);P46(275.85,281.25);P47(8.55,37.35);P48(60.75,33.75);P49(42.75,13.05);P50(87.75,58.95);P51(175.05,130.05);P52(199.35,142.65);P53(156.15,110.25);P54(169.65,196.65);P55(142.65,198.45);P56(133.65,94.05);P57(114.75,113.85);P58(220.05,67.95);P59(131.85,247.05);P60(158.85,248.85);P61(335.25,134.55);P62(249.75,193.95);P63(174.15,226.35);P64(158.85,275.85);P65(239.85,33.75);P66(225.45,135.45);P67(118.35,179.55);P68(274.05,180.45);P69(2.25,179.55);P70(98.55,219.15);P71(299.25,168.75);P72(280.35,207.45);P73(144.45,11.25);P74(91.35,174.15);P75(237.15,6.75);P76(153.45,37.35);P77(318.15,96.75);P78(305.55,121.05);P79(323.55,193.05);P80(323.55,220.05);P81(274.05,67.95);P82(83.25,271.35);P83(296.55,52.65);P84(118.35,20.25);P85(233.55,216.45);P86(339.75,13.05);P87(205.65,220.95);P88(310.05,244.35);P89(319.95,38.25);P90(268.65,153.45);P91(340.65,68.85);P92(65.25,181.35);P93(18.45,126.45);P94(252.45,256.05);P95(292.95,25.65);P96(69.75,6.75);P97(337.05,250.65);P98(284.85,254.25);P99(302.85,274.95);P100(257.85,229.05),所述第一发光单元分布图案与所述基础发光单元分布图案之间的相似程度等于或者超过预设阈值,所述相似程度阈值的定义方式为将所述第一发光单元图案经过有限次数不改变发光单元之间相关性的图形变换后获得与所述基础发光单元分布图案朝向一致且发光单元大小相同的第二发光单元图案,所述第二发光单元图案与所述基础发光单元分布图案运用归一化相关系数匹配法计算得出的相似度数值等于或超过0.25的预设阈值。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳阜时科技有限公司,未经深圳阜时科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201890000302.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。