[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法、带抗蚀剂膜的空白掩模、光罩的制造方法、电子元件的制造方法在审
| 申请号： | 201880082630.4 | 申请日： | 2018-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN111512229A | 公开（公告）日： | 2020-08-07 |
| 发明（设计）人： | 土村智孝;川岛敬史;金子明弘;小川伦弘;白川三千纮;古谷创;崎田享平 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F1/60;G03F1/78;G03F7/004;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 蒋亭 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供一种可获得灵敏度优异的抗蚀剂膜且可获得LER性能优异的图案，并且能够抑制图案形成时的图案崩塌的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种使用了上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法、带抗蚀剂膜的空白掩模、光罩的制造方法以及电子元件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含：树脂X，其具有以通式(I)表示的重复单元A、具有酸分解性基的重复单元B以及选自由以通式(II)表示的重复单元c1等的重复单元C；化合物Y，其为通过光化射线或放射线的照射而碱性降低的碱性化合物或铵盐化合物；及光产酸剂Z，其为化合物Y以外的化合物。 |
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| 搜索关键词： | 感光 射线 放射 线性 树脂 组合 抗蚀剂膜 图案 形成 方法 带抗蚀剂膜 空白 制造 电子元件 | ||
【主权项】：
暂无信息
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