[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法、带抗蚀剂膜的空白掩模、光罩的制造方法、电子元件的制造方法

权利要求书

1.一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其包含：

树脂X，其具有以通式(I)表示的重复单元A、具有酸分解性基的重复单元B以及选自由以通式(II)表示的重复单元c1、以通式(III)表示的重复单元c2、具有碳酸酯环基的重复单元c3及具有酐环基的重复单元c4组成的组中的重复单元C；

化合物Y，其为通过光化射线或放射线的照射而碱性降低的碱性化合物或铵盐化合物；及

光产酸剂Z，其为所述化合物Y以外的化合物，

通式(I)中，RI表示氢原子或1价的有机基团，

n表示1以上的整数，

J表示(n+1)价的连结基，

通式(II)中，RII表示氢原子或1价的有机基团，

Q表示2价的连结基，

T表示1价的有机基团，

通式(III)中，RIII分别独立地表示氢原子或取代基，

lac表示内酯环基。

2.根据权利要求1所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

n表示2以上的整数。

3.根据权利要求1或2所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

J表示(n+1)价的具有脂环基的基团。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

所述重复单元A为以通式(I-a)表示的重复单元，

通式(I-a)中，RI表示氢原子或1价的有机基团。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

所述重复单元A的含量相对于所述树脂X的总质量为20质量％以上。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

所述重复单元B具有以通式(B-a)～(B-c)中的任意者表示的基团，

通式(B-a)中，O^x表示氧原子，

R^c1表示与O^x直接键合的原子为叔碳原子的取代基，

*表示键合位置，

通式(B-b)中，C^x表示碳原子，

R^c2表示与C^x直接键合的原子为叔碳原子的取代基，

*表示键合位置，

通式(B-c)中，O^x表示氧原子，

R^c3表示与O^x直接键合的原子为叔碳原子的取代基，

Lf表示芳香环基或全氟亚烷基，

*表示键合位置。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

T表示以通式(II-a)～(II-c)中的任意者表示的基团，

通式(II-a)～(II-c)中，*表示键合位置。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

所述树脂X具有选自由以通式(II-1)表示的重复单元及以通式(II-2)表示的重复单元组成的组中的重复单元，

通式(II-1)及(II-2)中，RII表示氢原子或1价的有机基团。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

所述树脂X的分散度为1.0～1.5。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

所述重复单元A、所述重复单元B及所述重复单元C的总计含量相对于所述树脂X的总质量大于90质量％。