[发明专利]含碳覆层在保护无源电气构件免受氨侵蚀中的应用和设施有效
| 申请号： | 201880079223.8 | 申请日： | 2018-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN111448337B | 公开（公告）日： | 2022-09-09 |
| 发明（设计）人： | 迪尔克·扎尔茨;安德烈亚斯·斯特克;马尔特·伯查特;弗朗茨-约瑟夫·韦斯特曼;斯特凡·迪克霍夫;克里斯托夫·雷古拉;克里斯托弗·德勒;拉尔夫·维尔肯 | 申请（专利权）人： | 弗劳恩霍夫应用研究促进协会 |
| 主分类号： | C23C16/26 | 分类号： | C23C16/26;H01F5/06;H01F41/12;C23C28/04 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 张春水;蒋静静 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及含碳覆层在保护无源电气构件免受氨侵蚀中的一种应用，其中所述含碳覆层是溶胶凝胶覆层或等离子体聚合物覆层。所述含碳覆层包括特定的碳份额。 | ||
| 搜索关键词： | 覆层 保护 无源 电气 构件 免受 侵蚀 中的 应用 设施 | ||
【主权项】：
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
