[发明专利]质量流量控制系统、包括该系统的半导体制造装置以及气化器有效
| 申请号： | 201880077206.0 | 申请日： | 2018-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN111417913B | 公开（公告）日： | 2023-05-12 |
| 发明（设计）人： | 石井守 | 申请（专利权）人： | 株式会社博迈立铖 |
| 主分类号： | G05D7/06 | 分类号： | G05D7/06 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种质量流量控制系统，构成为控制在流路中流动的流体的流量，该质量流量控制系统具有：第一装置，其为质量流量控制装置；外部传感器，其为构成第二装置的至少一个检测单元，所述第二装置是配设于第一装置的外部的装置；以及至少一个控制部，所述至少一个控制部设置于第一装置和第二装置这两方或其中任一方的壳体内，其中，控制部构成为能够至少基于从外部传感器输出的检测信号即外部信号来控制流量控制阀的开度。由此，不追加另外的控制装置等就能够实现迅速的吹扫处理、更准确的流量控制、简便的流量校正、基于罐内的压力或温度进行的流量控制或基于流体中的材料的浓度等进行的流量控制等效果。 | ||
| 搜索关键词： | 质量 流量 控制系统 包括 系统 半导体 制造 装置 以及 气化 | ||
【主权项】：
暂无信息
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