[发明专利]质量流量控制系统、包括该系统的半导体制造装置以及气化器

权利要求书

1.一种质量流量控制系统，具有：

流路，流体在所述流路的内部流动；

第一装置，其为具备流量控制阀的质量流量控制装置，所述流量控制阀设置于所述流路中并且构成为基于控制信号的性状来控制开度；

第二装置，其为配设于所述第一装置的外部的装置；以及

控制部，其中，仅在所述第一装置和所述第二装置中的任意一方的壳体内设置有一个所述控制部，或者在所述第一装置和所述第二装置这两方的壳体内各设置有一个所述控制部，

其中，所述第一装置具备作为流量传感器的内部传感器，

所述控制部构成为能够执行第一模式，所述第一模式为基于从所述内部传感器输出的检测信号即内部信号来确定所述控制信号的性状的工作模式，

所述质量流量控制系统构成为控制在所述流路中流动的流体的流量，

其中，所述第二装置包括至少一个作为检测单元的外部传感器，

所述控制部构成为能够在第二模式与所述第一模式之间切换并执行切换后的模式，所述第二模式为至少基于从所述外部传感器输出的检测信号即外部信号来确定所述控制信号的性状的工作模式。

2.根据权利要求1所述的质量流量控制系统，其特征在于，

还具有通信单元，所述通信单元构成为从所述外部传感器向所述控制部传递所述外部信号。

3.根据权利要求1或2所述的质量流量控制系统，其特征在于，

所述外部传感器为流量传感器。

4.根据权利要求3所述的质量流量控制系统，其特征在于，

所述控制部构成为：在所述第二模式中，能够基于从所述内部传感器输出的检测信号即内部信号与所述外部信号的差的大小来确定所述控制信号的性状。

5.根据权利要求3所述的质量流量控制系统，其特征在于，

所述控制部构成为能够执行第三模式，所述第三模式为以第一传感器为基准来执行第二传感器的流量校正的工作模式，所述第一传感器为所述内部传感器和所述外部传感器中的任一方的传感器，所述第二传感器为所述内部传感器和所述外部传感器中的并非所述第一传感器的传感器。

6.根据权利要求5所述的质量流量控制系统，其特征在于，

所述控制部构成为：在所述第三模式中，在所述流体以规定的质量流量、规定的温度及规定的压力在所述流路中流动的状态下，调整用于至少根据从所述第二传感器输出的检测信号来确定所述流体的质量流量的控制电路的放大器的增益，以使第一流量与第二流量的偏差即流量偏差比规定的阈值小，所述第一流量是基于从所述第一传感器输出的检测信号检测的所述流体的质量流量，所述第二流量是基于从所述第二传感器输出的检测信号检测的所述流体的质量流量。

7.根据权利要求3所述的质量流量控制系统，其特征在于，

所述控制部构成为能够执行第四模式，在所述第四模式中，在所述流体以规定的质量流量、规定的温度及规定的压力在所述流路中流动的状态下，当判定为内部流量与外部流量的偏差即流量偏差比规定的阈值大的情况下，判定为所述内部传感器和所述外部传感器中的至少任一方存在异常，所述内部流量是基于从所述内部传感器输出的检测信号即内部信号检测的所述流体的质量流量，所述外部流量是基于所述外部信号检测的所述流体的质量流量。

8.根据权利要求1或2所述的质量流量控制系统，其特征在于，

还具有罐，所述罐是具有用于流入所述流体的流入口和用于流出所述流体的流出口并且设置于所述流路中的密闭容器。

9.根据权利要求8所述的质量流量控制系统，其特征在于，

所述外部传感器为构成为检测存在于所述罐的内部的所述流体的压力的压力传感器。

10.根据权利要求8所述的质量流量控制系统，其特征在于，

所述外部传感器为构成为检测存在于所述罐的内部的所述流体的温度的温度传感器。