[发明专利]光刻胶作为多光谱滤光器阵列上的不透明孔掩模

摘要

设备(例如，多光谱滤光器阵列、光学晶片、光学部件)具有直接印刷在其上的孔掩模，该孔掩模包含正性或负性光刻胶。该设备包括基底，该基底具有印刷在基底的光入射面或光出射面中的至少一个上的孔掩模，以在基底的一部分上方提供孔。形成孔掩模的光刻胶是可光定义的或不可光定义的，并且被沉积/印刷，以在基底上形成孔掩模。