[发明专利]光波导及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201880069569.X 申请日: 2018-11-09
公开(公告)号: CN111344615A 公开(公告)日: 2020-06-26
发明(设计)人: 前田真吾;近藤直幸;中芝彻;栗副润子 申请(专利权)人: 松下知识产权经营株式会社
主分类号: G02B6/138 分类号: G02B6/138;G02B6/122
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 柯瑞京
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明一个方面涉及一种种光波导,其特征在于包括:高折射率的芯形成层;以及低折射率的第一包覆层,与所述芯形成层的第一主面接合,其中,所述芯形成层在其平面方向上具有芯部(A)、与所述芯部(A)的两侧邻接的侧面包覆部(B)、以及与所述侧面包覆部(B)的另一侧邻接的高折射率部(C),所述芯部(A)在其平面方向上具有中央区域以及GI区域,所述GI区域中折射率自所述中央区域起向所述芯部(A)与所述侧面包覆部(B)的界面连续降低,所述侧面包覆部(B)具有折射率恒定的区域。
搜索关键词: 波导 及其 制造 方法
【主权项】:
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