[发明专利]光波导及其制造方法在审
申请号: | 201880069569.X | 申请日: | 2018-11-09 |
公开(公告)号: | CN111344615A | 公开(公告)日: | 2020-06-26 |
发明(设计)人: | 前田真吾;近藤直幸;中芝彻;栗副润子 | 申请(专利权)人: | 松下知识产权经营株式会社 |
主分类号: | G02B6/138 | 分类号: | G02B6/138;G02B6/122 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 柯瑞京 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 波导 及其 制造 方法 | ||
1.一种光波导,其特征在于包括:
高折射率的芯形成层;以及
低折射率的第一包覆层,与所述芯形成层的第一主面接合,其中,
所述芯形成层在其平面方向上具有芯部(A)、与所述芯部(A)的两侧邻接的侧面包覆部(B)、以及与所述侧面包覆部(B)的另一侧邻接的高折射率部(C),
所述芯部(A)在其平面方向上具有中央区域以及GI区域,所述GI区域中折射率自所述中央区域起向所述芯部(A)与所述侧面包覆部(B)的界面连续降低,
所述侧面包覆部(B)具有折射率恒定的区域。
2.根据权利要求1所述的光波导,其特征在于:
所述芯部(A)中的所述中央区域的折射率为恒定。
3.根据权利要求1或2所述的光波导,其特征在于:
所述高折射率部(C)具有折射率恒定的区域。
4.根据权利要求3所述的光波导,其特征在于:
所述高折射率部(C)具有第二GI区域,所述第二GI区域中折射率自所述高折射率部(C)与所述侧面包覆部(B)的界面起向所述折射率恒定的区域连续增加。
5.根据权利要求3或4所述的光波导,其特征在于:
所述高折射率部(C)中的所述折射率恒定的区域的折射率同等于所述芯部(A)中的所述中央区域的折射率。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的光波导,其特征在于:
所述芯形成层的固化度以整体区域计为50%以上。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的光波导,其特征在于:
在所述芯形成层的另一主面接合有低折射率的第二包覆层。
8.一种光波导的制造方法,其特征是制造权利要求1~7中任一项所述的光波导的方法,所述光波导的制造方法包括依序进行下述步骤:
层叠步骤,将用以形成所述芯形成层的未固化的透明树脂膜抵接并贴合于所述第一包覆层;
第一曝光步骤,对于所述层叠步骤中所得的层叠体,使用具有开口部和位于所述开口部的侧缘部的20~80%透射率的半色调区域的掩膜,对相当于所述芯部(A)的部位和相当于所述侧面包覆部(B)的部位照射活性能量射线,使经照射的部分半固化;以及
第二曝光步骤,对所述透明树脂膜整体照射活性能量射线,使其进一步固化。
9.根据权利要求8所述的制造方法,其特征在于还包括:
热处理步骤,在所述第一照射步骤与所述第二照射步骤之间,对所述层叠体进行热处理。
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