[发明专利]凹面衍射光栅的制造方法、凹面衍射光栅及使用其的分析装置有效
| 申请号： | 201880059819.1 | 申请日： | 2018-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN111095043B | 公开（公告）日： | 2023-03-10 |
| 发明（设计）人： | 八重樫健太;江畠佳定;青野宇纪 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立高新技术 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;B29C59/02;G01J3/18 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 钟晶;陈彦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 能够容易地、高精度地将衍射光栅的沟槽图案的沟槽周期与凸面固定基板的位置进行对准。为此，将形成于平面衍射光栅(101)的、具有不等间隔的沟槽周期的沟槽图案(103)转印至金属薄膜(105)，在具有固定金属薄膜(105)的凸面的固定基板(108)的凸面上形成第一位置对准标记(109)，将形成于金属薄膜(105)的粘接面的第二位置对准标记(106)与第一位置对准标记(109)进行重合，由此进行位置对准，将金属薄膜的粘接面与固定基板的凸面进行粘接来制备母版(110)，转印母版(110)的金属薄膜的沟槽图案，由此来制备凹面衍射光栅。 | ||
| 搜索关键词： | 凹面 衍射 光栅 制造 方法 使用 分析 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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