[发明专利]凹面衍射光栅的制造方法、凹面衍射光栅及使用其的分析装置

权利要求书

1.一种凹面衍射光栅的制造方法，其中，通过如下步骤来制备凹面衍射光栅：

在平面衍射光栅上利用电镀成膜金属薄膜，将形成于所述平面衍射光栅上的、具有不等间隔的沟槽周期的沟槽图案转印至所述金属薄膜，

在具有固定所述金属薄膜的凸面的固定基板的所述凸面上，形成第一位置对准标记，

将形成于所述金属薄膜的粘接面的第二位置对准标记与所述第一位置对准标记重合，由此进行位置对准，粘接所述金属薄膜的粘接面与所述固定基板的所述凸面来制备母版，

将所述母版的所述金属薄膜的沟槽图案进行转印，来制备所述凹面衍射光栅，

并且，转印所述凹面衍射光栅的沟槽图案来制备凸面衍射光栅，转印所述凸面衍射光栅的沟槽图案进一步制备所述凹面衍射光栅的复制品，

所述凹面衍射光栅的复制品侧的位置对准标记形成于刻线有所述复制品的沟槽图案的区域之外。

2.根据权利要求1所述的凹面衍射光栅的制造方法，其中，

在所述固定基板的所述凸面上，形成多个所述第一位置对准标记，

在所述金属薄膜的粘接面上，形成与多个所述第一位置对准标记分别对应的多个所述第二位置对准标记。

3.根据权利要求1所述的凹面衍射光栅的制造方法，其中，

所述第一位置对准标记与所述第二位置对准标记是通过重合而能够目测确认在不同的2个方向上的位置偏差的标记的组合。

4.根据权利要求3所述的凹面衍射光栅的制造方法，其中，

所述第一位置对准标记及所述第二位置对准标记是大小不同的具有相同形状的标记的组合。

5.一种凹面衍射光栅的制造方法，其中，通过如下步骤来制备凹面衍射光栅：

在平面衍射光栅上利用电镀成膜金属薄膜，将形成于所述平面衍射光栅上的、具有不等间隔的沟槽周期的沟槽图案转印至所述金属薄膜，

形成贯穿了具有固定所述金属薄膜的凸面的固定基板的第一位置对准孔，

通过位置对准用夹具所具有的位置对准用销，将形成于所述金属薄膜上的第二位置对准孔与所述第一位置对准孔重合，由此进行位置对准，粘接所述金属薄膜的粘接面与所述固定基板的所述凸面来制备母版，

将所述母版的所述金属薄膜的沟槽图案进行转印，来制备所述凹面衍射光栅，

并且，转印所述凹面衍射光栅的沟槽图案来制备凸面衍射光栅，转印所述凸面衍射光栅的沟槽图案进一步制备所述凹面衍射光栅的复制品，

所述凹面衍射光栅的复制品侧的位置对准标记形成于刻线有所述复制品的沟槽图案的区域之外。

6.根据权利要求5所述的凹面衍射光栅的制造方法，其中，

在所述固定基板上形成多个所述第一位置对准孔，

在所述金属薄膜上，形成与多个所述第一位置对准孔分别对应的多个所述第二位置对准孔。

7.一种凹面衍射光栅，特征在于，包括：

在凹面形状的表面上，设置了通过转印母版的第一沟槽图案和第一位置对准标记而形成的第二沟槽图案和第三位置对准标记的树脂基板，

被覆所述树脂基板的所述凹面形状的表面的反射膜，和

固定所述树脂基板的凹面固定基板；

在所述母版的具有形成了所述第一位置对准标记的凸面的固定基板上，将形成有具有不等间隔的沟槽周期的所述第一沟槽图案和第二位置对准标记的金属薄膜，以在所述第一位置对准标记与所述第二位置对准标记重合的状态进行固定。

8.一种分析装置，特征在于，包括：

光源，

设置样品的样品室，

将透过所述样品室的来自所述光源的光分成多个波长成分的凹面衍射光栅，和

用于检测来自所述凹面衍射光栅的衍射光的具有平面状检测面的检测器；

所述凹面衍射光栅包括：

在凹面形状的表面上，设置了通过转印母版的第一沟槽图案和第一位置对准标记而形成的第二沟槽图案和第三位置对准标记的树脂基板，

被覆所述树脂基板的所述凹面形状的表面的反射膜，和

固定所述树脂基板的凹面固定基板；

在所述母版的具有形成了所述第一位置对准标记的凸面的固定基板上，将形成有具有不等间隔的沟槽周期的所述第一沟槽图案和第二位置对准标记的金属薄膜，以在所述第一位置对准标记与所述第二位置对准标记重合的状态进行固定；

利用所述第三位置对准标记来进行所述凹面衍射光栅的调节。