[发明专利]处理室组件和形成表面纹理的方法在审
| 申请号： | 201880044953.4 | 申请日： | 2018-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN110891713A | 公开（公告）日： | 2020-03-17 |
| 发明（设计）人： | 奥利维尔·马尔尚 | 申请（专利权）人： | 清洁设备集团公司 |
| 主分类号： | B22F3/105 | 分类号： | B22F3/105;B22F5/10;B29C64/00;C23C14/56;C23C16/458;B22F7/00;B23K15/00;B23K26/34;C22C1/08;C23C16/44;H01J37/32;B22F5/00;B33Y80/00;B33Y10/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 沈同全;车文 |
| 地址： | 德国阿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种在用于基板处理室的环形屏蔽元件形式的处理室组件上形成表面纹理的方法，所述基板处理室被设计成用于制造晶片、芯片或管芯，所述处理室组件形成屏蔽元件并且具有至少一个组件表面，所述方法包括在所述至少一个组件表面上形成所述表面纹理的步骤，以便在所述表面纹理中限定至少一个凹部，并且使得由所述表面纹理限定的总表面积大于由所述至少一个组件表面限定的总表面积，其中，所述表面纹理通过增材制造而被施加到所述至少一个组件表面。此外，提出了一种用于基板处理室的特别是环形屏蔽元件形式的改进的处理室组件，该基板处理室被设计成制造晶片、芯片或管芯。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 组件 形成 表面 纹理 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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