[发明专利]表面处理方法以及表面处理用组合物在审
| 申请号： | 201880038688.9 | 申请日： | 2018-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN110730811A | 公开（公告）日： | 2020-01-24 |
| 发明（设计）人： | 桐野学 | 申请（专利权）人： | 三键有限公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;B05D3/12;B24B1/00;C09K3/18 |
| 代理公司： | 11291 北京同达信恒知识产权代理有限公司 | 代理人： | 洪秀川 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种表面处理方法、以及适合于该方法的表面处理用的组合物，所述表面处理方法通过不依赖作业者的力量的简易施工，对于涂装表面能够一次性实现美观提高和耐久性优良的被膜形成。本发明为一种表面处理方法，其中，使用表面处理用组合物，并使用抛光机进行施工，所述表面处理用组合物包含：(A)具有反应性基团的高分子有机硅烷、(B)反应催化剂、和(C)含有平均一次粒径为0.1～10000nm的无机化合物的研磨粒子。 | ||
| 搜索关键词： | 高分子有机硅 平均一次粒径 反应催化剂 反应性基团 无机化合物 研磨粒子 抛光机 一次性 被膜 涂装 施工 美观 简易 力量 | ||
【主权项】：
1.一种表面处理方法，其是对基材表面进行研磨以及被膜形成处理的方法，其中，使用表面处理用组合物，并使用抛光机进行施工，所述表面处理用组合物包含：/n(A)具有反应性基团的高分子有机硅烷、/n(B)反应催化剂、和/n(C)平均一次粒径为0.1～10000nm的研磨粒子。/n
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