[发明专利]表面处理方法以及表面处理用组合物在审
| 申请号： | 201880038688.9 | 申请日： | 2018-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN110730811A | 公开（公告）日： | 2020-01-24 |
| 发明（设计）人： | 桐野学 | 申请（专利权）人： | 三键有限公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;B05D3/12;B24B1/00;C09K3/18 |
| 代理公司： | 11291 北京同达信恒知识产权代理有限公司 | 代理人： | 洪秀川 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 高分子有机硅 平均一次粒径 反应催化剂 反应性基团 无机化合物 研磨粒子 抛光机 一次性 被膜 涂装 施工 美观 简易 力量 | ||
1.一种表面处理方法，其是对基材表面进行研磨以及被膜形成处理的方法，其中，使用表面处理用组合物，并使用抛光机进行施工，所述表面处理用组合物包含：
(A)具有反应性基团的高分子有机硅烷、
(B)反应催化剂、和
(C)平均一次粒径为0.1～10000nm的研磨粒子。
2.根据权利要求1所述的表面处理方法，其中，相对于所述(A)1质量份，(B)的含量为0.001～0.5质量份，(C)的含量为0.01～1.0质量份。
3.根据权利要求1或2所述的表面处理方法，其中，所述(A)为具有反应性基团的有机聚硅氧烷。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的表面处理方法，其中，相对于所述(A)1质量份，还在0.1～100质量份的范围内包含(D)基本上不含有水的有机溶剂。
5.根据权利要求4所述的表面处理方法，其中，所述(D)的含量是相对于所述(A)1质量份在1.0～10质量份的范围。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的表面处理方法，其中，所述(A)的反应性基团为水解聚合性反应基团。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的表面处理方法，其中，所述(C)的平均一次粒径为0.1～200nm的范围。
8.根据权利要求1～7中任一项所述的表面处理方法，其中，所述(C)的平均一次粒径为1～150nm的范围。
9.根据权利要求1～8中任一项所述的表面处理方法，其中，所述(C)为包含无机化合物的研磨粒子。
10.根据权利要求1～9中任一项所述的表面处理方法，其中，所述(C)为包含表面进行疏水处理后的二氧化硅粒子的研磨粒子。
11.根据权利要求1～10中任一项所述的表面处理方法，其中，所述使用抛光机进行施工的表面是预先涂装而成的被涂装表面。
12.根据权利要求11所述的表面处理方法，其中，所述预先涂装而成的被涂装表面是用于汽车的车体外装的被涂装钢板表面和/或被涂装树脂构件表面。
13.根据权利要求1～12中任一项所述的表面处理方法，其中，所述抛光机为旋转式抛光机。
14.根据权利要求13所述的表面处理方法，其中，所述旋转式抛光机为单动的旋转式抛光机或双动的旋转式抛光机。
15.根据权利要求1～14中任一项所述的表面处理方法，其中，所述施工使用具备超细纤维制的抵接构件的抛光机。
16.一种抛光机施工用的表面处理用组合物，其中，包含：
(A)具有反应性基团的高分子有机硅烷、
(B)反应催化剂、和
(C)含有平均一次粒径为0.1～10000nm的无机化合物的研磨粒子。
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