[发明专利]相位差膜及其制造方法有效
| 申请号： | 201880035015.8 | 申请日： | 2018-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN110678787B | 公开（公告）日： | 2022-05-03 |
| 发明（设计）人： | 浅田毅;摺出寺浩成;藤井健作 | 申请（专利权）人： | 日本瑞翁株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;B29C48/30;B29C48/305;B29C55/02;C08J5/18;C08L53/02 |
| 代理公司： | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人： | 杨卫萍;袁波 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种相位差膜及其制造方法，该相位差膜包含由具有负的固有双折射值的树脂C形成的取向层，上述树脂C含有嵌段共聚物，上述嵌段共聚物具有以聚合单元A为主成分的嵌段(A)和以聚合单元B为主成分的嵌段(B)，上述嵌段(A)具有负的固有双折射值、且重量分数为50重量％以上且90重量％以下，并且，该相位差膜具有大于0且小于1的NZ系数。优选在所述取向层中，上述树脂C呈现相分离结构，且上述相分离结构中的相间距离为200nm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 相位差 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种相位差膜，其包含由具有负的固有双折射值的树脂C形成的取向层，/n所述树脂C含有嵌段共聚物，该嵌段共聚物具有以聚合单元A为主成分的嵌段(A)和以聚合单元B为主成分的嵌段(B)，所述嵌段(A)具有负的固有双折射值、且重量分数为50重量％以上且90重量％以下，/n所述相位差膜具有大于0且小于1的NZ系数。/n
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