[发明专利]用于收集三维数据的光电装置有效
申请号: | 201880030747.8 | 申请日: | 2018-03-12 |
公开(公告)号: | CN110651166B | 公开(公告)日: | 2021-09-24 |
发明(设计)人: | 库图·芙萝音 | 申请(专利权)人: | 赫普塔冈微光有限公司 |
主分类号: | G01B11/25 | 分类号: | G01B11/25 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 郭艳芳;王琦 |
地址: | 新加坡*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本公开阐述用于在不确定视差的情况下收集三维数据的光电装置。该方法相对于用于收集三维数据的目前最先进技术方法更具显著灵活性。举例而言,由所公开的装置产生的照射(例如,图案)不需要呈现与一般由结构化光的方法所需要的照射相同的复杂程度或随机性程度。此外,在某些例子中,本公开中所阐述的这些装置在宽距离范围内呈现最佳分辨率。本文中所阐述的光电装置可操作以产生照射,该照射包括在由并入至该光电装置中的成像器成像时呈现距离相依改变的多个高强度特征。 | ||
搜索关键词: | 用于 收集 三维 数据 光电 装置 | ||
【主权项】:
1.一种用于收集三维数据的光电装置,包括:/n第一发射器,包含第一发光元件阵列及与所述第一发光元件阵列对准的第一发射器光学组件,所述第一发射器由第一发射器光学轴线表征;/n所述第一发光元件阵列可操作以将第一光发射至所述第一发射器光学组件上,且所述第一发射器光学组件可操作以在第一照射场内引导所述第一光;/n第二发射器,包含第二发光元件阵列及与所述第二发光元件阵列对准的第二发射器光学组件,所述第二发射器由第二发射器光学轴线表征;/n所述第二发光元件阵列可操作以将第二光发射至所述第二发射器光学组件上,且所述第二发射器光学组件可操作以在第二照射场内引导所述第二光;/n在所述第一照射场及所述第二照射场内被引导的所述光包括照射,所述照射包含多个高强度特征,其中所述高强度特征由特征密度表征;/n成像器,包含光敏强度元件阵列及与所述光敏强度元件阵列对准的成像器光学组件,所述成像器由成像器光学轴线表征;/n所述成像器光学组件可操作以在视场内将所述照射的经反射部分引导至所述光敏强度元件阵列上,从而产生所述照射的所述经反射部分的影像;/n其中所述照射的所述经反射部分源自在所述视场内的一个或多个对象,所述一个或多个对象分别安置于距所述光电装置的一个或多个距离处,所述一个或多个距离描绘三维数据;并且/n所述第一发射器、所述第二发射器及所述成像器被配置为使得所述特征密度在所产生的影像中是实质上恒定的。/n
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