[发明专利]用于收集三维数据的光电装置有效

专利信息
申请号: 201880030747.8 申请日: 2018-03-12
公开(公告)号: CN110651166B 公开(公告)日: 2021-09-24
发明(设计)人: 库图·芙萝音 申请(专利权)人: 赫普塔冈微光有限公司
主分类号: G01B11/25 分类号: G01B11/25
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 郭艳芳;王琦
地址: 新加坡*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 收集 三维 数据 光电 装置
【权利要求书】:

1.一种用于收集三维数据的光电装置,包括:

第一发射器,包含第一发光元件阵列及与所述第一发光元件阵列对准的第一发射器光学组件,所述第一发射器由第一发射器光学轴线表征;

所述第一发光元件阵列可操作以将第一光发射至所述第一发射器光学组件上,且所述第一发射器光学组件可操作以在第一照射场内引导所述第一光;

第二发射器,包含第二发光元件阵列及与所述第二发光元件阵列对准的第二发射器光学组件,所述第二发射器由第二发射器光学轴线表征;

所述第二发光元件阵列可操作以将第二光发射至所述第二发射器光学组件上,且所述第二发射器光学组件可操作以在第二照射场内引导所述第二光;

在所述第一照射场及所述第二照射场内被引导的所述光包括照射,所述照射包含多个高强度特征,其中所述高强度特征由特征密度表征;

成像器,包含光敏强度元件阵列及与所述光敏强度元件阵列对准的成像器光学组件,所述成像器由成像器光学轴线表征;

所述成像器光学组件可操作以在视场内将所述照射的经反射部分引导至所述光敏强度元件阵列上,从而产生所述照射的所述经反射部分的影像;

其中所述照射的所述经反射部分源自在所述视场内的一个或多个对象,所述一个或多个对象分别安置于距所述光电装置的一个或多个距离处,所述一个或多个距离描绘三维数据;并且

所述第一发射器、所述第二发射器及所述成像器被配置为使得所述特征密度在所产生的影像中是实质上恒定的。

2.如权利要求1所述的光电装置,进一步包括以通信方式耦合至所述成像器的处理器,所述处理器可操作以自所述影像中提取所述三维数据。

3.如权利要求1所述的光电装置,其中所述第一发射器、所述第二发射器及所述成像器被配置为根据到所述视场中的所述一个或多个对象的所述一个或多个距离,使得所述高强度特征在所述所产生的影像中呈现改变。

4.如权利要求2所述的光电装置,其中所述第一发射器、所述第二发射器及所述成像器被配置为根据到所述视场中的所述一个或多个对象的所述一个或多个距离,使得所述高强度特征在所述所产生的影像中呈现改变,并且所述处理器可操作以依据所述距离相依改变提取三维数据。

5.如权利要求3所述的光电装置,其中所述第一发射器光学轴线、所述第二发射器光学轴线及所述成像器光学轴线全部相对于彼此而偏斜,使得所述高强度特征密度在所述所产生的影像中是实质上恒定的。

6.如权利要求3所述的光电装置,其中所述多个高强度特征的所述距离相依改变包含所述高强度特征的至少一部分的失真,且所述失真是距所述光电装置的所述距离的函数。

7.如权利要求6所述的光电装置,其中所述多个高强度特征的所述距离相依改变包含所述高强度特征的至少一个额外部分的至少一个额外失真,且所述至少一个额外失真是距所述光电装置的距离的另一函数。

8.如权利要求5所述的光电装置,其中所述第一发射器、所述第二发射器及所述成像器被配置为使得所述第一发射器光学轴线、所述第二发射器光学轴线及所述成像器光学轴线相对于彼此而偏斜介于0.1°与10°之间。

9.如权利要求3所述的光电装置,其中所述视场由视场角度表征,所述第一照射场由第一照射场角度表征,所述第二照射场由第二照射场角度表征,所述第一照射场不等于所述第二照射场,且所述视场角度不等于所述第一照射场角度或所述第二照射场角度。

10.如权利要求9所述的光电装置,其中所述第一照射场角度和/或所述第二照射场角度介于0.1°与10°之间、大于所述视场角度,且所述第一照射场角度或所述第二照射场角度两者皆不比另一者大出介于0.1°与10°之间。

11.如权利要求3所述的光电装置,其中在所述第一照射场内被引导的所述第一光及在所述第二照射场内被引导的所述第二光各自是高强度特征的准正规网格。

12.如权利要求3所述的光电装置,其中所述照射包括莫尔图案。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于赫普塔冈微光有限公司,未经赫普塔冈微光有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880030747.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top