[发明专利]用于收集三维数据的光电装置有效
| 申请号: | 201880030747.8 | 申请日: | 2018-03-12 |
| 公开(公告)号: | CN110651166B | 公开(公告)日: | 2021-09-24 |
| 发明(设计)人: | 库图·芙萝音 | 申请(专利权)人: | 赫普塔冈微光有限公司 |
| 主分类号: | G01B11/25 | 分类号: | G01B11/25 |
| 代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 郭艳芳;王琦 |
| 地址: | 新加坡*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 收集 三维 数据 光电 装置 | ||
1.一种用于收集三维数据的光电装置,包括:
第一发射器,包含第一发光元件阵列及与所述第一发光元件阵列对准的第一发射器光学组件,所述第一发射器由第一发射器光学轴线表征;
所述第一发光元件阵列可操作以将第一光发射至所述第一发射器光学组件上,且所述第一发射器光学组件可操作以在第一照射场内引导所述第一光;
第二发射器,包含第二发光元件阵列及与所述第二发光元件阵列对准的第二发射器光学组件,所述第二发射器由第二发射器光学轴线表征;
所述第二发光元件阵列可操作以将第二光发射至所述第二发射器光学组件上,且所述第二发射器光学组件可操作以在第二照射场内引导所述第二光;
在所述第一照射场及所述第二照射场内被引导的所述光包括照射,所述照射包含多个高强度特征,其中所述高强度特征由特征密度表征;
成像器,包含光敏强度元件阵列及与所述光敏强度元件阵列对准的成像器光学组件,所述成像器由成像器光学轴线表征;
所述成像器光学组件可操作以在视场内将所述照射的经反射部分引导至所述光敏强度元件阵列上,从而产生所述照射的所述经反射部分的影像;
其中所述照射的所述经反射部分源自在所述视场内的一个或多个对象,所述一个或多个对象分别安置于距所述光电装置的一个或多个距离处,所述一个或多个距离描绘三维数据;并且
所述第一发射器、所述第二发射器及所述成像器被配置为使得所述特征密度在所产生的影像中是实质上恒定的。
2.如权利要求1所述的光电装置,进一步包括以通信方式耦合至所述成像器的处理器,所述处理器可操作以自所述影像中提取所述三维数据。
3.如权利要求1所述的光电装置,其中所述第一发射器、所述第二发射器及所述成像器被配置为根据到所述视场中的所述一个或多个对象的所述一个或多个距离,使得所述高强度特征在所述所产生的影像中呈现改变。
4.如权利要求2所述的光电装置,其中所述第一发射器、所述第二发射器及所述成像器被配置为根据到所述视场中的所述一个或多个对象的所述一个或多个距离,使得所述高强度特征在所述所产生的影像中呈现改变,并且所述处理器可操作以依据所述距离相依改变提取三维数据。
5.如权利要求3所述的光电装置,其中所述第一发射器光学轴线、所述第二发射器光学轴线及所述成像器光学轴线全部相对于彼此而偏斜,使得所述高强度特征密度在所述所产生的影像中是实质上恒定的。
6.如权利要求3所述的光电装置,其中所述多个高强度特征的所述距离相依改变包含所述高强度特征的至少一部分的失真,且所述失真是距所述光电装置的所述距离的函数。
7.如权利要求6所述的光电装置,其中所述多个高强度特征的所述距离相依改变包含所述高强度特征的至少一个额外部分的至少一个额外失真,且所述至少一个额外失真是距所述光电装置的距离的另一函数。
8.如权利要求5所述的光电装置,其中所述第一发射器、所述第二发射器及所述成像器被配置为使得所述第一发射器光学轴线、所述第二发射器光学轴线及所述成像器光学轴线相对于彼此而偏斜介于0.1°与10°之间。
9.如权利要求3所述的光电装置,其中所述视场由视场角度表征,所述第一照射场由第一照射场角度表征,所述第二照射场由第二照射场角度表征,所述第一照射场不等于所述第二照射场,且所述视场角度不等于所述第一照射场角度或所述第二照射场角度。
10.如权利要求9所述的光电装置,其中所述第一照射场角度和/或所述第二照射场角度介于0.1°与10°之间、大于所述视场角度,且所述第一照射场角度或所述第二照射场角度两者皆不比另一者大出介于0.1°与10°之间。
11.如权利要求3所述的光电装置,其中在所述第一照射场内被引导的所述第一光及在所述第二照射场内被引导的所述第二光各自是高强度特征的准正规网格。
12.如权利要求3所述的光电装置,其中所述照射包括莫尔图案。
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