[发明专利]发光装置以及投影仪有效
| 申请号： | 201880026637.4 | 申请日： | 2018-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN110546833B | 公开（公告）日： | 2022-01-14 |
| 发明（设计）人： | 野田贵史;北野洋司 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | H01S5/042 | 分类号： | H01S5/042 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 李庆泽;邓毅 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供发光装置以及投影仪，其能够抑制漏电流。发光装置包含：基体；第1半导体层，其具有第1导电型；第2半导体层，其具有与所述第1导电型不同的第2导电型；发光层，其设置在所述第1半导体层与所述第2半导体层之间，能够通过注入电流而发光；以及第3半导体层，其设置在所述基体与所述第1半导体层之间，具有所述第2导电型，所述第1半导体层设置在所述第3半导体层与所述发光层之间，所述第3半导体层具有凹凸构造。 | ||
| 搜索关键词： | 发光 装置 以及 投影仪 | ||
【主权项】：
1.一种发光装置，该发光装置包含：/n基体；/n第1半导体层，其具有第1导电型；/n第2半导体层，其具有与所述第1导电型不同的第2导电型；/n发光层，其设置在所述第1半导体层与所述第2半导体层之间，能够通过注入电流而发光；以及/n第3半导体层，其设置在所述基体与所述第1半导体层之间，具有所述第2导电型，/n所述第1半导体层设置在所述第3半导体层与所述发光层之间，/n所述第3半导体层具有凹凸构造。/n
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