[发明专利]用于光掩模及光罩检验以及晶片印刷检查验证的多列间隔有效
| 申请号： | 201880017435.3 | 申请日： | 2018-02-03 |
| 公开（公告）号： | CN110431488B | 公开（公告）日： | 2022-01-28 |
| 发明（设计）人： | R·海恩斯;F·基莱塞;M·普里尔 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 刘丽楠 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明揭示一种用于扫描电子显微镜SEM系统的多列组合件。所述多列组合件包含布置成以一或多个间隔界定的阵列的多个电子光学列。每一电子光学列包含一或多个电子光学元件。所述多个电子光学列经配置以表征固定于载台上的样本的表面上的一或多个场区。所述多个电子光学列中的电子光学列的数目等于所述一或多个场区中的一场区中的检验区的整数数目。所述多个电子光学列的所述一或多个间隔对应于所述检验区的一或多个尺寸。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光掩模 检验 以及 晶片 印刷 检查 验证 间隔 | ||
【主权项】：
1.一种用于扫描电子显微镜SEM系统的多列组合件，其包括：多个电子光学列，其布置成以一或多个间隔界定的阵列，其中每一电子光学列包含一或多个电子光学元件，其中所述多个电子光学列经配置以表征固定于载台上的样本的表面上的一或多个场区，其中所述多个电子光学列中的电子光学列的数目等于所述一或多个场区中的一场区中的检验区的整数数目，其中所述多个电子光学列的所述一或多个间隔对应于所述检验区的一或多个尺寸。
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