[发明专利]用于光掩模及光罩检验以及晶片印刷检查验证的多列间隔

权利要求书

1.一种用于扫描电子显微镜SEM系统的多列组合件，其包括：

多个电子光学列，其布置成以一或多个间隔界定的阵列，其中每一电子光学列包含一或多个电子光学元件，

其中所述多个电子光学列经配置以表征固定于载台上的样本的表面上的场区，

其中所述多个电子光学列中的电子光学列的数目等于所述场区中的检验区的整数数目，

其中所述多个电子光学列的所述一或多个间隔对应于所述检验区的一或多个尺寸，

其中所述电子光学列经间隔开使得所述多个电子光学列的总检验区匹配所述样本的全场区；

其中所述电子光学列经间隔开使得由每一电子光学列所检验的面积是相等的，其中整数数目个检验区中的至少一组邻近检验区至少部分重叠。

2.根据权利要求1所述的多列组合件，其中所述一或多个间隔包含第一方向上的第一间隔及至少第二方向上的至少第二间隔。

3.根据权利要求2所述的多列组合件，其中所述第一方向上的所述第一间隔与所述至少所述第二方向上的所述至少所述第二间隔不同。

4.根据权利要求2所述的多列组合件，其中所述第一方向上的所述第一间隔与所述至少所述第二方向上的所述至少所述第二间隔相等。

5.根据权利要求1所述的多列组合件，其中所述整数数目个检验区中的所述邻近检验区不重叠。

6.根据权利要求1所述的多列组合件，其中所述整数数目个检验区的大小基本上相等。

7.根据权利要求1所述的多列组合件，其中所述整数数目个检验区中的第一检验区的大小不同于所述整数数目个检验区中的第二检验区。

8.根据权利要求1所述的多列组合件，其中所述样本的所述表面上的所述场区包含所述样本的所述表面上的单个场区，其中所述单个场区被分成所述整数数目个检验区。

9.根据权利要求1所述的多列组合件，其中所述样本的所述表面上的所述场区包含第一场区及至少第二场区，其中所述第一场区及所述至少所述第二场区各自包含所述整数数目个检验区。

10.根据权利要求9所述的多列组合件，其中所述多个电子光学列经配置以依序表征所述第一场区及所述至少所述第二场区。

11.根据权利要求10所述的多列组合件，其中所述多个电子光学列经配置以在表征所述第一场区中的所述整数数目个检验区之后表征所述至少所述第二场区中的所述整数数目个检验区。

12.根据权利要求9所述的多列组合件，其中所述第一场区与所述至少所述第二场区不重叠。

13.根据权利要求9所述的多列组合件，其中所述第一场区与所述至少所述第二场区至少部分地重叠。

14.根据权利要求9所述的多列组合件，其中所述第一场区与所述至少所述第二场区的大小基本上相等。

15.根据权利要求9所述的多列组合件，其中所述第一场区的大小不同于所述至少所述第二场区。

16.根据权利要求1所述的多列组合件，其中所述多个电子光学列接收由多个电子束源产生的多个电子束。

17.根据权利要求16所述的多列组合件，其中所述多个电子光学列中的每一电子光学列接收所述多个电子束中的一电子束。

18.根据权利要求16所述的多列组合件，其中所述多个电子光学列将所述多个电子束引导到所述样本的所述表面。