[发明专利]包括用于将辐射施加到靶的辐射发射器的装置和相关方法在审
| 申请号： | 201880017282.2 | 申请日： | 2018-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN110431462A | 公开（公告）日： | 2019-11-08 |
| 发明（设计）人： | J·赫克;D·莱昂哈特;D·斯普拉克;M·派尔;J·迪特里希 | 申请（专利权）人： | 贺利氏特种光源美国有限责任公司;贺利氏特种光源有限公司 |
| 主分类号： | G02B19/00 | 分类号： | G02B19/00;B05D3/06;B05D7/20;B29C71/04;F26B3/28;F26B13/00;G02B1/04;G02B6/02;B05D3/02;B29C35/10;B29C35/08 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 雷明;吴鹏 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供了一种用于将辐射施加到靶的装置。所述装置包括：辐射发射器，所述辐射发射器发射峰值发射波长在10nm至1mm的范围内的电磁辐射；以及第一反射器，所述第一反射器在长度方向上延伸并且具有凹横截面。所述第一反射器界定具有周界的空腔区域，并且包括用于所述空腔区域的所述周界的至少50％的内向反射边界。向所述空腔区域提供具有强度分布I和最大强度Imax的辐射。所述空腔区域包括由归一化强度I/Imax大于0.2的所有点界定的聚焦区域。所述聚焦区域的宽度是所述空腔区域的宽度的0.0001倍至0.5倍。 | ||
| 搜索关键词： | 空腔区域 辐射发射器 反射器 聚焦区域 界定 周界 辐射 施加 峰值发射波长 电磁辐射 凹横截面 强度分布 归一化 反射 发射 延伸 | ||
【主权项】：
1.一种用于将辐射施加到靶的装置，所述装置包括：辐射发射器，所述辐射发射器被配置成从所述辐射发射器的辐射发射表面发射峰值发射波长在10nm到1mm的范围内的电磁辐射；以及第一反射器，所述第一反射器在长度方向上延伸并且具有垂直于所述长度方向的凹横截面，所述第一反射器界定具有周界的空腔区域，所述第一反射器具有用于所述空腔区域的所述周界的至少50％的内向反射边界，其中所述辐射发射表面定向成向所述空腔区域提供具有强度分布I和最大强度Imax的辐射，其中所述空腔区域包括由归一化强度I/Imax大于0.2的所有点界定的聚焦区域，其中所述聚焦区域的宽度是所述空腔区域的宽度的0.0001倍到0.5倍，并且其中沿着通过最大强度Imax的点并且与连接所述辐射发射器的所述辐射发射表面的两个端点的线平行的线来确定所述聚焦区域的所述宽度和所述空腔区域的所述宽度。
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