[发明专利]包括用于将辐射施加到靶的辐射发射器的装置和相关方法在审
| 申请号: | 201880017282.2 | 申请日: | 2018-03-09 |
| 公开(公告)号: | CN110431462A | 公开(公告)日: | 2019-11-08 |
| 发明(设计)人: | J·赫克;D·莱昂哈特;D·斯普拉克;M·派尔;J·迪特里希 | 申请(专利权)人: | 贺利氏特种光源美国有限责任公司;贺利氏特种光源有限公司 |
| 主分类号: | G02B19/00 | 分类号: | G02B19/00;B05D3/06;B05D7/20;B29C71/04;F26B3/28;F26B13/00;G02B1/04;G02B6/02;B05D3/02;B29C35/10;B29C35/08 |
| 代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 雷明;吴鹏 |
| 地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 空腔区域 辐射发射器 反射器 聚焦区域 界定 周界 辐射 施加 峰值发射波长 电磁辐射 凹横截面 强度分布 归一化 反射 发射 延伸 | ||
1.一种用于将辐射施加到靶的装置,所述装置包括:
辐射发射器,所述辐射发射器被配置成从所述辐射发射器的辐射发射表面发射峰值发射波长在10nm到1mm的范围内的电磁辐射;以及
第一反射器,所述第一反射器在长度方向上延伸并且具有垂直于所述长度方向的凹横截面,所述第一反射器界定具有周界的空腔区域,所述第一反射器具有用于所述空腔区域的所述周界的至少50%的内向反射边界,
其中所述辐射发射表面定向成向所述空腔区域提供具有强度分布I和最大强度Imax的辐射,
其中所述空腔区域包括由归一化强度I/Imax大于0.2的所有点界定的聚焦区域,
其中所述聚焦区域的宽度是所述空腔区域的宽度的0.0001倍到0.5倍,并且
其中沿着通过最大强度Imax的点并且与连接所述辐射发射器的所述辐射发射表面的两个端点的线平行的线来确定所述聚焦区域的所述宽度和所述空腔区域的所述宽度。
2.如权利要求1所述的装置,其中所述聚焦区域的面积是所述空腔区域的面积的0.00000001倍到0.30倍。
3.如权利要求1所述的装置,其中所述聚焦区域的面积在1mm2至3000mm2的范围内。
4.如权利要求1所述的装置,其中所述聚焦区域的宽度在0.01mm至50mm的范围内。
5.如权利要求1所述的装置,其中对于以Imax点为中心并且具有等于所述聚焦区域的所述宽度的直径的圆,所述圆的圆周上的最小强度值除以所述圆的所述圆周上的最大强度值是至少0.2。
6.如权利要求1所述的装置,所述装置还包括另一反射器,所述另一反射器向所述空腔区域的所述周界的部分提供内向反射边界。
7.如权利要求6所述的装置,其中所述另一反射器界定孔口,其中所述辐射发射器位于所述空腔区域外部,并且所述辐射发射表面定向成朝向所述孔口。
8.如权利要求1所述的装置,所述装置还包括靶腔室,所述靶腔室具有靶腔室壁,其中所述靶腔室壁对于所述辐射发射器的峰值发射波长是透明的,其中所述聚焦区域的至少50%包括在所述靶腔室中。
9.如权利要求8所述的装置,其中所述聚焦区域完全包括在所述靶腔室中。
10.如权利要求9所述的装置,其中在所述靶腔室中提供以下各者中的至少一者:(i)惰性气体;以及(ii)惰性气体流。
11.如权利要求1所述的装置,所述装置还包括所述空腔区域的所述周界中的一个或多个空气管道。
12.如权利要求1所述的装置,其中所述空腔区域中的所述归一化强度I/Imax具有小于1/mm的最大梯度。
13.如权利要求1所述的装置,其中所述聚焦区域中的所述归一化强度I/Imax具有小于0.5/mm的最大梯度。
14.如权利要求1所述的装置,其中所述辐射发射器的峰值发射波长在170nm至450nm的范围内。
15.如权利要求1所述的装置,其中所述辐射发射器的峰值发射波长在700nm至1mm的范围内。
16.如权利要求1所述的装置,其中所述辐射发射器包括至少四个辐射发射器的阵列。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于贺利氏特种光源美国有限责任公司;贺利氏特种光源有限公司,未经贺利氏特种光源美国有限责任公司;贺利氏特种光源有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880017282.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





