[发明专利]防护膜组件、曝光原版、曝光装置及半导体装置的制造方法

摘要

本发明提供EUV透射性高、释气少、污染少的EUV用防护膜组件及其制造方法。防护膜组件(100)的特征在于，具有防护膜(101)、支撑框(103)以及第1粘接层(109)，所述第1粘接层(109)设置于支撑框的与吊挂有防护膜的端部相反一侧的端部，在第1粘接层的沿与防护膜面交叉的方向且处于吊挂防护膜一侧的侧面具有无机物层(111)，上述无机物层的质量吸收系数(μ_m)为5×10³cm²/g～2×10⁵cm²/g的范围。

主权项

1.一种防护膜组件，其特征在于，具有防护膜、支撑防护膜的支撑框以及第1粘接层，所述第1粘接层设置于所述支撑框的与吊挂有防护膜的端部相反一侧的端部，在所述第1粘接层的沿与所述防护膜面交叉的方向且处于吊挂所述防护膜一侧的侧面具有无机物层，所述无机物层的质量吸收系数μ_m为5×10³cm²/g～2×10⁵cm²/g的范围。