[发明专利]用于处理基板的方法、用于真空处理的设备和真空处理系统有效
| 申请号： | 201880003483.7 | 申请日： | 2018-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN110494587B | 公开（公告）日： | 2021-12-07 |
| 发明（设计）人： | 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧;马蒂亚斯·赫曼尼斯;托马索·维尔切斯;斯蒂芬·班格特 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/54;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开内容提供了一种处理基板的方法。所述方法包括：将具有多个沉积开口(21)的掩模运输到处理腔室中；将具有背面图案(11)的基板运输到所述处理腔室中；使所述基板(10)相对于所述掩模(20)对准(780)；和用光学检查装置(440)来至少局部地检查(790)所述多个沉积开口(21)与所述背面图案(11)之间的偏移。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 处理 方法 真空 设备 系统 | ||
【主权项】：
1.用于处理基板的方法，包括：/n将具有多个沉积开口(21)的掩模运输(760)到处理腔室中；/n将具有背面图案(11)的基板运输(770)到所述处理腔室中；/n使所述基板(10)相对于所述掩模(20)对准(780)；和/n用光学检查装置(440)来至少局部地检查(790)所述多个沉积开口(21)与所述背面图案(11)之间的偏移。/n
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