[发明专利]用于处理基板的方法、用于真空处理的设备和真空处理系统

说明书

本公开内容提供了一种处理基板的方法。所述方法包括：将具有多个沉积开口(21)的掩模运输到处理腔室中；将具有背面图案(11)的基板运输到所述处理腔室中；使所述基板(10)相对于所述掩模(20)对准(780)；和用光学检查装置(440)来至少局部地检查(790)所述多个沉积开口(21)与所述背面图案(11)之间的偏移。

技术领域

本公开内容的实施方式涉及用于处理基板的方法、设备和系统，更具体地涉及用于处理涂覆有沉积材料的大面积基板的方法、设备和系统。另外，本公开内容的实施方式涉及用于基板的真空处理的设备，并且涉及真空处理系统。具体地，本公开内容的实施方式涉及检查掩模和基板相对于彼此的对准，特别是检查原位对准。

背景技术

已知用于在基板上沉积材料的若干方法。作为一个示例，可以通过使用蒸发工艺、物理气相沉积(PVD)工艺(诸如溅射工艺，喷涂工艺等)或化学气相沉积(CVD)工艺来涂覆基板。可以在要涂覆的基板所在的沉积设备的处理腔室中执行工艺。沉积材料提供在处理腔室中。多种材料(诸如有机材料、分子、金属、氧化物、氮化物和碳化物)可以用于在基板上沉积。此外，可以在处理腔室中进行其它工艺，像蚀刻、结构化、退火等。

例如，对于大面积基板，例如在显示器制造技术中，可以考虑涂覆工艺。可以在若干应用和若干技术领域中使用涂覆的基板。例如，一种应用可以是有机发光二极管(OLED)面板。另外的应用包括绝缘面板、微电子器件(诸如半导体器件)、具有薄膜晶体管(TFT)的基板、滤色器(color filter)等。OLED是由(有机)分子薄膜组成的固态器件，OLED通过施加电力来产生光。作为一个示例，与例如液晶显示器(LCD)相比，OLED显示器可以在电子装置上提供明亮显示并减少使用功率。在处理腔室中，产生(例如，蒸发、溅射或喷射等)有机分子并使有机分子在基板上沉积成层。粒子可以例如通过具有边界或特定图案的掩模，以在基板上的期望位置处沉积材料，例如，以在基板上形成OLED图案。

与处理的基板、特别是沉积层的质量有关的一个方面是基板相对于掩模的对准。作为一个示例，对准应是准确和稳定的，以便实现良好工艺结果。为此目的，存在于基板上和掩模上的参考点(基准点)用于在沉积工艺之前将掩模与基板正确地对准。然而，这些参考点之间的关系可能易受外部干扰(诸如振动、制造公差、搬运、因温度和/或真空造成的变形、掩模和基板的运输等)影响。

当基板和掩模在沉积期间保持在基本上竖直的位置时，重力影响掩模与基板之间的对准，特别是对于用于显示器制造的大面积基板。然而，沉积工艺需要尽可能准确以在基板上实现最佳可能结果。

鉴于上述，需要可提供更有效的对准检查的方法、设备和系统，以节省时间和材料。

发明内容

鉴于上述，提供一种用于处理基板的方法、一种用于处理基板的设备和一种用于基板的真空处理的系统。本公开内容的另外的方面、益处和特征从权利要求书、说明书和附图中清楚。

根据本公开内容的一个方面，提供一种处理基板的方法。所述方法包括：将具有多个沉积开口的掩模运输到处理腔室中；将具有背面图案(backplane pattern)的基板运输到所述处理腔室中；使所述基板相对于所述掩模对准；和用光学检查装置来至少局部地检查所述多个沉积开口与所述背面图案之间的偏移。

根据本公开内容的另一方面，提供一种用于基板的真空处理的设备。所述设备包括：对准装置，被配置为使具有背面图案的基板相对于具有多个沉积开口的掩模对准；光学检查装置，被配置为至少局部地确定所述多个沉积开口与所述背面图案之间的偏移；和沉积源，布置在所述掩模的前侧，并且被配置成在所述基板上沉积一种或多种材料。

根据本公开内容的另一方面，提供一种真空处理系统。真空系统包括：根据本文所述的实施方式的设备；基板，耦接到所述对准装置的第一固定件(mount)；和掩模，耦接到所述对准装置的第二固定件。

附图说明