[实用新型]HIT异质结太阳能电池制造设备有效

专利信息
申请号: 201822142955.7 申请日: 2018-12-19
公开(公告)号: CN209328932U 公开(公告)日: 2019-08-30
发明(设计)人: 范继良 申请(专利权)人: 黄剑鸣
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L21/67;H01L21/677;C23C16/54;C23C14/56
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 张艳美;王志
地址: 中国香港新界大埔*** 国省代码: 中国香港;81
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摘要: 实用新型公开一种HIT异质结太阳能电池制造设备,其包括依次对接设置的装载室、第一、二PECVD沉积室、PVD沉积室及卸载室,还包括用于同步传输硅片于各工序之间的同步室,第一、二PECVD沉积室之间、以及第二PECVD沉积室与PVD沉积室之间均设置有隔离室,隔离室使得被连接的二者之间实现分隔式的密封连通,隔离室的抽气腔与抽气装置连通,隔离室内还设置有用于减少气流流动性的辊轴组件,辊轴组件包括呈相切主、从动辊轴;同步室及隔离室使得工序处理室连接呈一体式设计,使得用本实用新型生产HIT异质结太阳能电池结构时,相较现有的制造设备其生产效率及产品质量均得到大幅提高,具有较强的实用性,适于广泛推广使用。
搜索关键词: 沉积室 隔离室 异质结太阳能电池 制造设备 本实用新型 辊轴组件 气流流动性 一体式设计 抽气装置 从动辊轴 对接设置 工序处理 密封连通 生产效率 同步传输 抽气腔 分隔式 卸载室 装载室 硅片 相切 连通 隔离 室内 生产
【主权项】:
1.一种HIT异质结太阳能电池制造设备,其特征在于,包括依次对接设置的用于提供硅片的装载室、用于化学气相沉积的第一PECVD沉积室、用于化学气相沉积的第二PECVD沉积室、用于磁控溅射镀膜的PVD沉积室及用于卸载硅片的卸载室,还包括用于同步传输硅片于各工序之间的同步室,所述装载室与所述第一PECVD沉积室之间设置一所述同步室,所述PVD沉积室与所述卸载室之间设置一所述同步室,所述同步室内设置有同步电机,两所述同步室内的所述同步电机借由一用于承载硅片的传输件连接,所述传输件依次贯穿所述装载室、所述第一PECVD沉积室、所述第二PECVD沉积室、所述PVD沉积室及所述卸载室,所述第一PECVD沉积室与所述第二PECVD沉积室之间、以及所述第二PECVD沉积室与所述PVD沉积室之间均设置一隔离室,所述隔离室呈中空结构并形成抽气腔,所述抽气腔连通一抽气装置,所述第一PECVD沉积室与所述第二PECVD沉积室借由二者之间的所述隔离室呈密封的连通,所述第二PECVD沉积室与所述PVD沉积室借由二者之间的所述隔离室呈密封的连通,所述隔离室的抽气腔内设置有辊轴组件,所述辊轴组件包括呈上下相切设置的从动辊轴和主动辊轴,所述主动辊轴连接一驱动其转动的辊轴驱动机构,所述主动辊轴和所述从动辊轴外均具有呈柔性结构的硅胶层,穿过所述第一PECVD沉积室的所述传输件与所述第一PECVD沉积室与所述第二PECVD沉积室之间的隔离室中的辊轴组件的主动辊轴与从动辊轴相切处正对对接,穿过所述第二PECVD沉积室的所述传输件与所述第二PECVD沉积室与所述PVD沉积室之间的隔离室中的辊轴组件的主动辊轴与从动辊轴相切处正对对接,两所述同步电机的同步驱动将使从装载室内移送至传输件上的硅片,依次通过所述第一PECVD沉积室、所述第二PECVD沉积室及所述PVD沉积室而到达所述卸载室被卸下,所述传输件于所述隔离室处绕行设置,硅片由所述第一PECVD沉积室到所述第二PECVD之间的传输借由二者之间的隔离室内的主动辊轴与从动辊轴的滚动而传输,硅片由第二PECVD沉积室到所述PVD沉积室之间的传输借由二者之间的隔离室内的主动辊轴与从动辊轴的滚动而传输。
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