[实用新型]一种用于垂直流动式反应室的ALD装置

摘要

本实用新型公开了一种用于垂直流动式反应室的ALD装置，包括反应室、前驱体源输送系统、真空系统、臭氧发生器、控制系统、反应室外壁、前驱体源入口、抽气匀气装置、样品进入口、匀气喷淋装置、真空系统接口和样品台，所述控制系统的内部设置有真空系统，控制系统的下方设置有臭氧发生器，本实用新型一种用于垂直流动式反应室的ALD装置，样品台同时具有加热功能，样品台尺寸不同规格，增加多样性，通过匀气喷淋装置匀气后吸附在样品表面，在垂直流动式反应室的底部增加抽气匀气装置，防止气流迅速的从中间抽走，可提高薄膜的均匀性，对于非理想的ALD过程并不敏感，且反应室比较横向流动式要大，可以生长一些尺度大的三维样品。

主权项

1.一种用于垂直流动式反应室的ALD装置，包括反应室(1)、前驱体源输送系统(2)、真空系统(3)、臭氧发生器(4)、控制系统(5)、反应室外壁(6)、前驱体源入口(7)、抽气匀气装置(8)、样品进入口(9)、匀气喷淋装置(10)、真空系统接口(11)、样品台(12)和压力监测系统接口(13)，其特征在于：所述控制系统(5)的内部设置有真空系统(3)，控制系统(5)的下方设置有臭氧发生器(4)，控制系统(5)的上方安装有反应室(1)和前驱体源输送系统(2)，前驱体源输送系统(2)上安装有反应室外壁(6)，所述反应室(1)的内部设置有反应室外壁(6)，反应室外壁(6)内部设置有样品台(12)，反应室外壁(6)的上方连接有匀气喷淋装置(10)，匀气喷淋装置(10)的上方连接有前驱体源入口(7)，所述反应室外壁(6)的外侧安装有样品进入口(9)，反应室外壁(6)的下方连接有抽气匀气装置(8)，抽气匀气装置(8)的下方设置有真空系统接口(11)和压力监测系统接口(13)。