[实用新型]晶片电性测量装置有效
| 申请号： | 201822061610.9 | 申请日： | 2018-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN209327514U | 公开（公告）日： | 2019-08-30 |
| 发明（设计）人： | 胡泰祥 | 申请（专利权）人： | 元茂光电科技（武汉）有限公司 |
| 主分类号： | G01R31/26 | 分类号： | G01R31/26;G01R1/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 430020 湖北省*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种晶片电性测量装置，包括吸附平台、真空控制阀、导管及点测探头；吸附平台包括下槽体和上闭合板；下槽体侧壁设有真空通孔；上闭合板盖设于下槽体上端使吸附平台形成密封盒体结构，上闭合板设有多个通气孔；真空控制阀通过导管与所述真空通孔连通，且真空控制阀通过另一导管与真空发生装置连通。本实用新型提出的晶片电性测量装置，通过吸附平台实现真空负压以吸附待测晶圆片，使晶圆片无法滑动，有效提高了点测效率；通过滑台的作用，方便改变晶圆片电极对位方式，提高作业效率；通过真空控制阀的作用，晶圆片的取放更方便；且整个装置结构简单，制造和使用成本低，更易于推广运用。 | ||
| 搜索关键词： | 真空控制阀 吸附平台 电性测量 闭合板 晶圆片 下槽体 导管 本实用新型 真空通孔 晶片 连通 真空发生装置 待测晶圆片 电极对位 密封盒体 真空负压 装置结构 作业效率 通气孔 滑动 上端 侧壁 盖设 滑台 取放 吸附 种晶 制造 | ||
【主权项】：
1.一种晶片电性测量装置，其特征在于，包括吸附平台、真空控制阀、导管及点测探头；所述吸附平台包括下槽体和上闭合板；所述下槽体为上端敞口的盒体结构，其侧壁设有真空通孔；所述上闭合板盖设于所述下槽体上端使吸附平台形成密封盒体结构，所述上闭合板设有多个通气孔；所述真空控制阀通过导管与所述真空通孔连通，且所述真空控制阀通过另一导管与真空发生装置连通；所述点测探头设于所述吸附平台上方。
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