[实用新型]晶片电性测量装置

说明书

本实用新型公开了一种晶片电性测量装置，包括吸附平台、真空控制阀、导管及点测探头；吸附平台包括下槽体和上闭合板；下槽体侧壁设有真空通孔；上闭合板盖设于下槽体上端使吸附平台形成密封盒体结构，上闭合板设有多个通气孔；真空控制阀通过导管与所述真空通孔连通，且真空控制阀通过另一导管与真空发生装置连通。本实用新型提出的晶片电性测量装置，通过吸附平台实现真空负压以吸附待测晶圆片，使晶圆片无法滑动，有效提高了点测效率；通过滑台的作用，方便改变晶圆片电极对位方式，提高作业效率；通过真空控制阀的作用，晶圆片的取放更方便；且整个装置结构简单，制造和使用成本低，更易于推广运用。

技术领域

本实用新型涉及晶片测量技术领域，具体地涉及一种晶片电性测量装置。

背景技术

现有技术中，对晶片(晶圆片)的电性测量方式通常是将晶片放置于PVC板上，测量晶片上下左中右(五点)电性时需不断用手推动PVC至合适位置进行测量；这种缺陷在于芯粒电极较小，用手调整，极难保证电极与探针位置重合；晶圆片放置于PVC上，较易滑动，点测时无法保证有效点测。另外，市场上还出现有一种采用静电卡盘的测量装置，利用静电卡盘将晶片吸附固定以完成测量，但由于静电卡盘价格高昂，维护使用成本高，难以推广。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型提出了一种晶片电性测量装置，包括吸附平台、真空控制阀、导管及点测探头；

所述吸附平台包括下槽体和上闭合板；所述下槽体为上端敞口的盒体结构，其侧壁设有真空通孔；所述上闭合板盖设于所述下槽体上端使吸附平台形成密封盒体结构，所述上闭合板设有多个通气孔；

所述真空控制阀通过导管与所述真空通孔连通，且所述真空控制阀通过另一导管与真空发生装置连通；

所述点测探头设于所述吸附平台上方。

进一步，还包括滑台；所述滑台包括平板和滑块导轨机构；所述平板设于所述吸附平台下方；所述滑块导轨机构设于平板下方用于驱动平板在水平面内做横向移动和/或纵向移动。

进一步，所述滑台还包括调节旋钮；所述滑块导轨机构包括丝杆和滑块；所述调节旋钮设于所述丝杆末端用于旋转丝杆以驱动滑块移动；所述滑块与平板连接。

进一步，所述上闭合板与下槽体通过粘胶剂密封连接。

进一步，所述真空控制阀包括出气孔、排气孔、进气孔和真空阀旋钮；所述出气孔通过导管与真空发生装置连通；所述排气孔通过另一导管与真空通孔连通；所述进气孔与外部连通；所述真空阀旋钮用于控制出气孔、排气孔和进气孔的开闭。

进一步，所述下槽体内还设有竖直的支撑筋；所述支撑筋上端与所述上闭合板连接或抵接。

本实用新型提出的晶片电性测量装置，通过吸附平台实现真空负压以吸附待测晶圆片，使晶圆片无法滑动，有效提高了点测效率；通过滑台的作用，方便改变晶圆片电极对位方式，提高作业效率；通过真空控制阀的作用，晶圆片的取放更方便；且整个装置结构简单，制造和使用成本低，更易于推广运用。

附图说明

图1为本实用新型晶片电性测量装置的吸附平台上设有晶圆片后的立体结构示意图；

图2为本实用新型晶片电性测量装置的下槽体的俯视立体结构示意图；

图3为本实用新型晶片电性测量装置的上闭合板的俯视立体结构示意图；

图4为图1的真空控制阀的主视结构示意图；

图5为图4的左视结构示意图；