[实用新型]用于集成电路封装的装置有效
申请号: | 201821904697.5 | 申请日: | 2018-11-19 |
公开(公告)号: | CN209266360U | 公开(公告)日: | 2019-08-16 |
发明(设计)人: | 喻建明 | 申请(专利权)人: | 苏州日月新半导体有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/673 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 林斯凯 |
地址: | 215021 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本申请实施例涉及用于集成电路封装的装置。根据本申请的一实施例,一用于集成电路封装的装置包括载台,该载台表面上设有呈阵列分布的多个承载工位。每一承载工位经配置以承载待溅镀集成电路产品单元,且包括凹槽及凸台。其中该凸台自该凹槽底部凸伸至低于该载台上表面的高度;且该凸台的每一侧边与该凹槽的对应侧之间在一水平方向上的距离定义第一尺寸,该凸台在该水平方向上的尺寸加上两倍的该第一尺寸小于所承载的集成电路产品单元在该相同水平方向上的尺寸。通过本申请提供的该装置,可以大幅降低在溅镀工艺中金属毛刺或碎屑的生成,进而提升溅镀工艺的产品良率及封装收益。 | ||
搜索关键词: | 凸台 集成电路封装 承载 溅镀 集成电路产品 工位 载台 申请 产品良率 金属毛刺 阵列分布 碎屑 凸伸 封装 收益 配置 | ||
【主权项】:
1.一种用于集成电路封装的装置,其特征在于所述装置包括:载台,其表面上设有呈阵列分布的多个承载工位,所述多个承载工位中的每一者经配置以承载待溅镀集成电路产品单元,其中所述承载工位中的每一者包括:凹槽;及凸台,自所述凹槽底部凸伸至低于所述载台上表面的高度;且所述凸台的每一侧边与所述凹槽的对应侧之间在一水平方向上的距离定义第一尺寸,所述凸台在所述水平方向上的尺寸加上两倍的所述第一尺寸小于所承载的集成电路产品单元在所述水平方向上的尺寸。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造