[实用新型]一种打磨抛光设备

摘要

本实用新型公开了一种打磨抛光设备，包括底板，所述底板顶部设有滑动板，所述滑动板顶部设有批量承载机构，所述批量承载机构包括承载模框，所述承载模框上贯穿设有承载孔，所述承载模框顶部设有上承载板以及底部设有下承载板，所述滑动板上贯穿设有丝杆，所述丝杆一端设有正反电机以及另一端外侧套接设有限位板，所述底板顶部设有外罩，所述外罩上设有打磨抛光机构与余灰清理机构。本实用新型通过利用批量承载机构对多个晶片抛光片进行承载并利用打磨抛光机构完成打磨抛光操作，从而同时进行大批量的加工，有效提高打磨抛光效率，保证了晶片抛光片的生产效率，使用时也较为简单方便，设计合理，具有较高的实用性。

主权项

1.一种打磨抛光设备，包括底板(1)，其特征在于：所述底板(1)顶部设有滑动板(2)，所述滑动板(2)顶部设有批量承载机构(3)，所述批量承载机构(3)包括承载模框(10)，所述承载模框(10)上贯穿设有承载孔(11)，所述承载模框(10)顶部设有上承载板(12)以及底部设有下承载板(13)，所述滑动板(2)上贯穿设有丝杆(4)，所述丝杆(4)一端设有正反电机(5)以及另一端外侧套接设有限位板(6)，所述底板(1)顶部设有外罩(7)，所述外罩(7)上设有打磨抛光机构(8)与余灰清理机构(9)，所述余灰清理机构(9)设于打磨抛光机构(8)一侧。