[实用新型]薄膜制备设备及其反应腔室有效
| 申请号： | 201821513970.1 | 申请日： | 2018-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN209065998U | 公开（公告）日： | 2019-07-05 |
| 发明（设计）人： | 杨康 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;C23C16/26 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 袁礼君;阚梓瑄 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种薄膜制备设备及其反应腔室。包括腔体以及设置在所述腔体内的载物平台；所述腔体包括：进气口，设置在所述载物平台的上方，用于输入反应气体；筒形的侧壁，设置有位于同一水平高度、由侧壁的内周壁凹陷形成且环绕所述载物平台分布的多个排气孔；以及排气流道，连通于每个所述排气孔；其中，所述排气流道抽气时，载物平台上方的气体从中间均匀地向四周流动。采用这种反应腔室制备的薄膜更加均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 反应腔室 薄膜制备设备 排气流道 载物平台 排气孔 侧壁 腔体 进气口 本实用新型 输入反应 同一水平 内周壁 凹陷 抽气 筒形 制备 薄膜 连通 环绕 体内 流动 | ||
【主权项】：
1.一种薄膜制备设备的反应腔室，其特征在于，包括腔体以及设置在所述腔体内的载物平台；所述腔体包括：进气口，设置在所述载物平台的上方，用于输入反应气体；筒形的侧壁，设置有位于同一水平高度、由侧壁的内周壁凹陷形成且环绕所述载物平台分布的多个排气孔；以及排气流道，连通于每个所述排气孔；其中，所述排气流道抽气时，载物平台上方的气体从中间均匀地向四周流动。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
