[实用新型]薄膜制备设备及其反应腔室

权利要求书

1.一种薄膜制备设备的反应腔室，其特征在于，包括腔体以及设置在所述腔体内的载物平台；

所述腔体包括：

进气口，设置在所述载物平台的上方，用于输入反应气体；

筒形的侧壁，设置有位于同一水平高度、由侧壁的内周壁凹陷形成且环绕所述载物平台分布的多个排气孔；以及

排气流道，连通于每个所述排气孔；

其中，所述排气流道抽气时，载物平台上方的气体从中间均匀地向四周流动。

2.根据权利要求1所述的反应腔室，其特征在于，所述排气流道包括设置在所述侧壁内的环空流道以及分别连通所述环空流道对称两侧的两个第一通道；

多个所述排气孔均从所述内周壁延伸到所述环空流道。

3.根据权利要求2所述的反应腔室，其特征在于，所述腔体还包括覆盖在所述侧壁的底部的底壁，两个所述第一通道从所述环空流道向下延伸到所述底壁；

所述排气流道还包括设置在所述底壁的中部的出气口，以及设置在所述侧壁内且分别从两个所述第一通道延伸到所述出气口的两个第二通道。

4.根据权利要求3所述的反应腔室，其特征在于，多个所述排气孔均分为分别靠近两个所述第二通道的两组排气孔，每组排气孔与其最接近的第二通道相对应；

在每组排气孔中，越接近其所对应的第二通道则相邻两个所述排气孔之间的间距越大。

5.根据权利要求4所述的反应腔室，其特征在于，在每组排气孔中，越接近其所对应的第二通道则排气孔的孔径越小。

6.根据权利要求1所述的反应腔室，其特征在于，所述腔体还包括覆盖在所述侧壁的顶端的顶壁，所述进气口设置在所述顶壁的中部。

7.根据权利要求1所述的反应腔室，其特征在于，所述多个排气孔均匀环绕所述载物平台；

所述腔体还包括：

覆盖所述侧壁的顶端的顶壁，所述进气口设置在所述顶壁的中部且朝向所述载物平台；

覆盖所述侧壁的底端的底壁，所述底壁的中部下方设置有用于排出所述腔体内的气体的出气口；

其中，所述腔体的壁面内还设置有连通排气孔和出气口的排气流道，腔体内的气体从每个排气孔经排气流道到达出气口的路径相等。

8.根据权利要求7所述的反应腔室，其特征在于，所述排气流道包括设置在侧壁内的第一流道和设置在底壁内的第二流道；

所述第一流道从每个排气孔延伸到所述第二流道，所述第二流道从所述第一流道延伸到所述出气口。

9.根据权利要求8所述的反应腔室，其特征在于，所述第一流道为沿着所述侧壁的轴向延伸的直流道，所述第二流道为从每个第一流道从径向延伸到所述出气口的直流道。

10.根据权利要求8所述的反应腔室，其特征在于，所述第一流道为一端连通每个排气孔、另一端连通所述第二流道的环空腔室。

11.根据权利要求10所述的反应腔室，其特征在于，所述第二流道为圆盘形的腔室，所述第一流道的端部连接所述第二流道的边缘，所述出气口连通于所述第二流道的中部。

12.根据权利要求7至11中任一项所述的反应腔室，其特征在于，所述排气孔的横截面为长轴水平设置的椭圆形。

13.根据权利要求12所述的反应腔室，其特征在于，所述横截面的面积为0.5π～2πcm²。

14.根据权利要求1至11中任一项所述的反应腔室，其特征在于，所述侧壁为圆筒形，所述载物平台为圆形板，所述侧壁与所述载物平台同轴设置。

15.根据权利要求14所述的反应腔室，其特征在于，所述排气孔平齐于所述载物平台的承载面。

16.一种薄膜制备设备，其特征在于，包括根据权利要求1至15中任一项所述的反应腔室。