[实用新型]基于电容传感器的F-P微位移测量系统的线性度比对装置有效
| 申请号： | 201821477304.7 | 申请日： | 2018-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN208704659U | 公开（公告）日： | 2019-04-05 |
| 发明（设计）人： | 蓝旭辉;沈小燕;余佳音;禹静;张宝武 | 申请（专利权）人： | 中国计量大学 |
| 主分类号： | G01B11/02 | 分类号： | G01B11/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 310018 浙江省杭州市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了基于电容传感器的F‑P微位移测量系统的线性度比对装置。本实用新型中“工”形支架一端固定在光学平台上，F‑P标准具干涉测量系统放置在其上方，面阵器件布置在F‑P标准具干涉测量系统前且处于同一光轴中用于干涉成像，应力加载系统改变应力F的大小，电容传感器探头通过检测电容的变化量，从而根据电路模块得到矩形等截面梁的形变量。用F‑P标准具干涉测量系统和电容传感器得到相应的位移量，通过对二者线性度曲线的比较完成F‑P标准具微位移测量系统的线性度比对。本实用新型具有检测精度高，可同步完成两种方法的测量，适用于高准确度微位移测量系统的线性度比对。 | ||
| 搜索关键词： | 线性度 微位移测量系统 电容传感器 标准具 干涉测量系统 本实用新型 比对装置 比对 等截面梁 电路模块 干涉成像 光学平台 加载系统 检测电容 面阵器件 同步完成 同一光轴 准确度 变化量 位移量 形变量 形支架 探头 测量 检测 | ||
【主权项】：
1.基于电容传感器的F‑P微位移测量系统的线性度比对装置，包括F‑P标准具干涉测量系统(5)、面阵器件(6)、“工”形支架(7)、矩形等截面梁(8)、应力加载系统(9)、电容传感器探头(13)和传感器探头固定模块(17)，其特征在于：F‑P标准具干涉测量系统(5)放置在“工”形支架(7)上方，面阵器件(6)放置在F‑P标准具干涉测量系统(5)前且与F‑P标准具干涉测量系统(5)处于同一光轴中用于成像，应力加载系统(9)通过对应力F的改变从而改变矩形等截面梁(8)的形变量，电容传感器探头(13)由探头固定模块(17)固定在矩形等截面梁(8)的正上方，用以感受矩形等截面梁(8)的形变量。
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