[实用新型]晶片表面自动涂源设备有效
| 申请号： | 201821286188.0 | 申请日： | 2018-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN208507637U | 公开（公告）日： | 2019-02-15 |
| 发明（设计）人： | 徐明星;张朝奇 | 申请（专利权）人： | 山东芯诺电子科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67 |
| 代理公司： | 青岛发思特专利商标代理有限公司 37212 | 代理人： | 卢登涛 |
| 地址： | 272100 山东省济*** | 国省代码： | 山东;37 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开一种晶片表面自动涂源设备，属于半导体器件生产技术领域，包括操作台，操作台中设有至少一个旋转工作台，旋转工作台的下方连接有旋转装置，旋转工作台的上方对应设置有摆臂升降装置，摆臂升降装置的外部联接有源液循环管道，源液循环管道上联接有循环泵，摆臂升降装置的下方设有出源口，出源口正对旋转工作台，源液循环管道的外部还联接有源液放置瓶，源液放置瓶的下方设有搅拌装置，本设备能够满足改善扩散源在晶体表面的均匀性涂覆，同时改善人员操作对生产效率及稳定性影响，解决了现有技术中出现的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 源液 旋转工作台 摆臂升降装置 循环管道 联接 出源口 涂源 半导体器件生产 操作台 本实用新型 稳定性影响 搅拌装置 晶片表面 晶体表面 人员操作 生产效率 旋转装置 均匀性 扩散源 循环泵 外部 涂覆 正对 种晶 | ||
【主权项】：
1.一种晶片表面自动涂源设备，包括操作台(6)，其特征在于：所述的操作台(6)中设有至少一个旋转工作台(15)，旋转工作台(15)的下方连接有旋转装置，旋转工作台(15)的上方对应设置有摆臂升降装置(3)，摆臂升降装置(3)的外部联接有源液循环管道(12)，源液循环管道(12)上联接有循环泵(11)，摆臂升降装置(3)的下方设有出源口(17)，出源口(17)正对旋转工作台(15)，源液循环管道(12)的外部还联接有源液放置瓶(10)，源液放置瓶(10)的下方设有搅拌装置。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
